二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9248936 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus
ID: 9248936
晶圆大小: 8"
WCVD System, 8".
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus反应器是一种化学气相沉积(CVD)工具,用于将极薄的薄膜沉积到基板上。它配备了自动化的锁载设备、顶部和底部气体输送、基于臭氧的清洁系统、先进的3-d反应堆以及高精度的温度控制单元。自动锁载机便于将基板装卸入腔室,大大简化了过程,提高了精度。"顶部和底部气体输送"是指气体输送工具,它包括一个淋浴头、双淋浴头和壁喷射器,允许较高的沉积率,同时允许精确控制分布。先进的三维反应器是专门为提高工艺均匀性和提高膜沉积速率而设计的。这一资产取代了许多其他传统的晶圆炉,这些晶圆炉用来将薄膜沉积在基板上。它还提供精确的温度控制,使薄膜的沉积能够准确、均匀。基于臭氧的清洁模式为无残留物沉积提供了优质的最大清洁度。氧化过程在沉积前消除了腔壁和表面的颗粒和有机物,从而提高了薄膜质量。高精度温度控制设备能实现极精确的温度控制,使薄膜的沉积能够准确、均匀。它还提供了减少沉积时间和提高基材质量的能力。总体而言,CONCEPT 2 Altus反应器是一种功能强大的CVD工具,具有专门为提高薄膜质量、减少沉积时间和提高工艺精度而设计的先进功能。Altus反应堆利用其负载锁定系统、气体输送装置、先进的三维反应堆和高精度温度控制,将在一系列底物上提供一致、优质的薄膜。
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