二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus #9093684 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus Reactor是一种双溅射装置，具有独特的功能，专为最苛刻的蚀刻和沉积应用而设计。它结合了反应能力和卓越的过程控制，以确保一致的高质量的结果。NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS独特的AC/DC/O2控制,结合现场排放源（FES）技术缓冲沉积,提高了大面积涂层的质量和均匀性。CONCEPT 2 Dual Altus与它的前身Concept 1构建在同一框架上,但具有几个增强的功能：双笼可处理两倍的表面积,提高溅射精度,改进多个等离子体源,以及增加一个O2源。双笼溅射设计减少了可能的电场，导致了难以置信的均匀沉积和增加了膜的均匀性。通过在等离子体源和晶圆之间插入法拉第笼，CONCEPT-2 DUAL ALTUS能够严密控制工作区的等离子体环境，防止电弧和污染。此外,NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus还提供了一套高级工艺控制选项,可准确控制沉积速率、均匀性和厚度。通过使用实时反馈和先进的工艺算法，NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS能够始终如一地生产出质量更高的产品。此外,CONCEPT 2 Dual Altus还提供了更高效的设计,可提高流程可重复性,并显着降低了O2的消耗,从而实现了更环保的流程。最后,CONCEPT-2 DUAL ALTUS在广泛的流程环境中灵活灵活且用途广泛,其模块化设计可方便地针对不同的应用进行修改。这种多功能性和可扩展性使客户能够升级和/或扩展其现有的Fact10环境,以包括NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus及其高级功能。NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS无论是用于增强沉积和蚀刻工艺,还是专用于专业应用,都是一种卓越的工具,能够产生始终如一的高质量结果。