二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9299473 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9299473
System
Dual EPD
MC3 Module controller
Heater: 19-00154-01
Clean method: Insitu clean (C2F6)
ADVANCED ENERGY RFG 5500 HF Generator (Model no: 315051-115)
ADVANCED ENERGY PDX 1400 LF Generator (Model no: 3156024-141B/C)
Al 3003 Showerhead (Model no: 16-033931-00)
RF Match: Mercury 3013NV (Model no: 3150274-003/008)
Throttle valve type: MKS (60-126668-00)
Gate valve type: HVA (34-260166-00)
Process gauge: MKS (627A11TBC)
ATM Gauge: MKS (627A13TBC)
ISO Box: HIB Board (04-355636-00)
High reliability ferrofluidic spindle (02-106507-00)
ADM RF Switch kit
Clean method
Insitu clean (C2F6)
ILDS for Chemical-TEOS supply system
Gas box:
MFC Model: Aera FC-7800CD
O2 20 SLM
C2F6 2 SLM
SiH4 1 SLM
N2A 5000 SCCM
N2B 10 SLM
N2O 20 SLM
N2O_AUX 1 SLM
PH3 2 SLM
NH3 10 SLM.
NOVELLUS CONCEPT 2双续快堆（Dual Sequel Express Reactor）是一种化学气相沉积（CVD）设备，用于将氧化物和氮化物等纤细层材料沉积到一系列基材上。该设备设有两个独立的Sequel处理室，每个处理室包括四个Dual EndurTM处理模块。Sequel腔室设计用于高通量处理，与替代化学气相沉积系统相比，使用户能够以非常快的速度沉积薄膜。概念2具有高度的多功能性,允许用户在一个批次中使用多个前体处理200 × 200毫米大小的基板。DualEndur工艺模块提供均匀的沉积和流量控制,并采用了一种创新的类似金刚石的涂层,可确保较长的使用寿命和多年的可靠运行。精密沉积过程是高度可重复的，确保整个基板表面的层厚度一致。Concept 2还配备了模块化的负载锁定系统，允许快速方便的物料装卸。该装置具有低压负载锁，使材料能够在真空和环境压力之间过渡，而无需额外的氮源。负载锁设计用于容纳各种基板支架，范围从普通晶片到全画幅盒式磁带。在过程控制方面，Concept 2采用了多项先进技术，如液晶触摸屏用户界面、自动配方编辑器以及实时温度和压力监控。该设备还提供以太网连接,允许用户通过计算机网络远程访问和控制计算机。总体而言，CONCEPT 2双续集快速反应器是将薄膜高效、精确地沉积到各种基板上的理想选择。该设备的高吞吐量和卓越的过程控制使其非常适合研究和生产环境,在降低成本和节约能源的同时提供可靠的结果。
还没有评论