二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S #9097741 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9097741
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
CVD System, 6"
Loadlock baratron: Tyran general
Loadlock dry pump: EDWARDS QDP40
Slit valve: SMC L-motion
TM Dry pump: EDWARDS QDP40
TM Throttle valve: Tyran general
TM Baratron model: Tyran general
TM Robot: MTR 5
TM Robot blade: Metal
Wafer sensor: Existence
Host interface: SECS
Module controller: MC1
12" LCD Front monitor
Module A: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
Module B: Shrink, STI/IMD
Manometer 1: Tyran general
Manometer 2: Tyran general
TMP Pump right: TG1113MBW-09
TMP Pump left: Osaka vac TG1113M
TMP Controller: TD 701/1101
Throttle valve: VAT 14046-PE24-0005
HF Generator: ENI OEM-50N-11601
LF Generator: ENI CLF-5000/400
Module dry pump: EDWARDS QDP80
Pump booster: EDWARDS EH1200
RF Match: TRAZAR AMU10E-1
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 2 O2 500 SCCM BROOKS 5964
MFC 3 NF3 1 SLM BROOKS 5964
MFC 4 SIH4 200 SCCM BROOKS 5964
MFC 5 SIF4 200 SCCM BROOKS 5964
DLCM Gas MFC
MFC1: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC2: UPC, Ar/He, 1 SLM, BROOKS 5866 RT
MFC3: Ar/He, 500 SLM, BROOKS 5964
SMIF Interface: No
PET Module: No
UPS Power: 120 V, 3 Ph, 3 wires
Main system: 208 V, 3 Ph, 5 wires
Currently de-installed
1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2双速-S反应堆是一种用于半导体制造的化学沉积室。它能够提供低温和高温化学气相沉积（CVD）工艺，从而能够处理各种介电、氧硝化物和金属薄膜。双腔室设计允许用户同时或独立运行两个应用程序（高温和低温），从而实现批量前体的输送和沉积，同时最大限度地提高工艺吞吐量。CONCEPT 2双速S反应堆具有多功能高温CVD室，可在高达1000 °C的温度下处理介电和金属膜。它还具有一个低温CVD腔室，可以在高达450 ˚C的温度下处理氧硝化物和介电膜。这两个室都设计用于各种起始前体，并具有多种配方后处理选项。NOVELLUS CONCEPT 2 Dual speed-S Reactor由先进、坚固的技术元件打造而成，提供精确度、取样和控制。低温CVD腔室采用专利forwardDirect™注入技术，能够更快、更高效的沉积，以及均匀的膜沉积和高产率。高温CVD腔室采用独特设计的气体歧管设计，用于严密的温度控制和广泛区域的均匀沉积。CONCEPT 2 Dual speed-S Reactor的另一个特点是它的自动化过程。获得专利的机器人输送机系统允许反应堆通过该系统自动移动晶片、基材、材料和组件，而机械辅助臂则确保预处理室和加工容器的准确和均匀装载。预处理室还允许在将基材装入加工容器之前进行毯子处理，以确保膜沉积均匀。总体而言，NOVELLUS CONCEPT 2双速S反应器是一种可靠、高效、用途广泛的化学沉积室。同时执行低温和高温CVD工艺的能力使其成为各种半导体制造工艺的理想选择。其先进的技术部件、自动化工艺和forwardDirect™注入技术提供了准确、统一和高产的操作。
还没有评论