二手 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9237572 待售

ID: 9237572
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
CVD Systems, 8" Mainframe Gas box: Standard with dual divert Robot: Express dual blade Cool down: 3 Slots Endpoint: Dual wavelength endpoint Sequel chamber: Sequel express TEOS Sigma 6 TEOS Cabinet (2) PFEIFFER 1600L Turbo Speed chambers 2001 vintage.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel是一种先进的物理气相沉积(PVD)反应器,设计用于在各种产品上生产高质量的涂层。这座反应堆装有产生高能离子的双磁限制弧,允许沉积层快速倾斜。它还具有两速沉积,这意味着它可以快速地在高沉积率和低沉积率之间切换。这种灵活节能的反应堆可用于各种行业,覆盖从医用和光学零件到汽车零件和半导体的产品。Concept 2 Dual Speed Sequel PVD反应堆由一个能容纳广泛底物的腔室和一个控制器组成,其中包括电源。腔室内部衬有气体端口,以便对等离子体进行适当的限制。它可以一次容纳多种基板,因此生产率很高。真空操作是可能的,因为使用了两级可充电冷冻泵。如果需要,集成电阻加热器可以进一步提高基板温度。NOVELLUS Concept 2双速续集PVD反应堆的核心是弧室。它由双壁不锈钢结构组成,电弧室装有两个电弧电极,每个电弧电极都有多个阳极。它还配备了离子源。弧室后部充满惰性气体,允许快速倾斜和精确控制沉积。Concept 2双速续集PVD反应堆的控制器连接到电弧室,并为两个电弧电极中的每一个分别提供电源。也可以手动或通过计算机进行控制。它包括允许对沉积过程进行最佳控制的软件,例如根据基板的类型和所需的涂层特性准备参数。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel PVD反应堆是一种高度先进的PVD系统,产生极耐用、符合各种标准的高品质涂层。由于其用户友好的界面和灵活的沉积能力,这种反应堆非常适合各种需要精确涂层和精确控制的工业应用。
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