二手 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9281515 待售

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于沉积半导体器件制造中使用的薄膜。这座双压双温反应堆使用两个泵来控制反应物浓度，并控制室内温度。双压力泵提供更大的气流控制，是优化CVD应用的理想选择。概念2双速续集是多晶硅沉积反应堆；它具有高压高速反应区，在加工室和气体输送气室之间有两个泵。第一个泵是前体气泵，它输送过程中使用的前体。第二个泵是反应压力泵，在反应区内保持恒定压力，从而允许精确控制反应物浓度。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel还设有一个高速、低压反应区，配有两个尺寸适当的流阀。第一个阀门是低压阀，调节过程气体引入反应腔，第二个阀门是高压阀，调节过程气体的停留时间和浓度。这两个阀门可以对薄膜沉积速率和薄膜质量进行精确的操纵和控制。Concept 2 Dual Speed Sequel具有双温度插件，以实现高效加热和冷却。双温度插件有助于优化反应堆内的温度曲线，从而允许更高的产量。插件配有紧密间隔的加热器元件，可实现均匀的温度控制和快速的时间响应。这些元素还通过整个反应带提供均匀的温度。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel拥有先进的控制器单元，具有直观易用的用户界面。此控制器具有图形用户界面（GUI）,允许进行详细的进程参数处理。此GUI还提供实时监视功能,并允许用户即时调整流程参数。Concept 2 Dual Speed Sequel是一种先进的CVD反应器系统，便于薄膜的高效精确沉积。其双压双温系统提供了对工艺参数的精确控制，而严密的温度控制则使产量更高。高级控制器系统也是一个值得欢迎的补充，因为它允许实时处理过程。所有这些特性使NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel成为薄膜沉积的理想工具。