二手 NOVELLUS Concept 2 Dual Speed #9206614 待售

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed
ID: 9206614
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
HDP CVD System, 8" 2000 vintage.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Reactor是一种先进的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,旨在使广泛的薄膜材料沉积在晶圆和基板上。该系统旨在提供高通量性能,减少反应室循环时间,使多种材料在精确的过程控制下沉积。该装置采用两种反应室速度,即双速度技术,旨在实现高通量和柔性材料沉积能力。为了达到最佳沉积厚度和均匀性,对每种沉积材料的反应室速度进行了优化。高速模式最适合不需要较长反应室循环时间的硬材料沉积等过程。低速模式设计用于沉积需要精确沉积控制的薄膜材料。机器利用可用于优化流程周期时间的调度选项的选择:最大吞吐量、无限负载或循环调度。最大吞吐量选项旨在通过启用可用的最长反应室循环时间来优化产量。无限载荷选项的设计使底物均匀性和均匀性的优化整个晶圆使用最短的反应腔循环可用。同时,循环调度选项可用于一次沉积多种薄膜,从而实现沉积材料之间的快速切换。该工具的长寿命RF组件进一步增强,其设计目的是提供较长的过程寿命。资产还利用高级腔室配置和过程控制来实现模型操作的灵活性,同时保持过程的一致性。最后,该设备允许使用各种额外的组件和程序,如原位腔室清洁和基板表面处理,以优化薄膜沉积工艺。通过利用概念2双速技术,晶圆和基板生产企业可以预期从提高材料沉积能力、缩短周期时间和提高各种薄膜沉积工艺的产量中获益。这种先进的等离子体增强化学气相沉积系统旨在确保用户能够提供更高水平的薄膜沉积能力,提高通量和工艺均匀性。
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