二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #293798174 待售
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ID: 293798174
优质的: 2002
CVD System, 8"
Wafer type: Notch / flat
Process: SION
Mag7 Robot vacuum
Single chamber
Light towers: RYG, 3-Color
Main frame: DLCM Express, 8"
Signal tower: Cool station
Dual load lock cassette module
No integrated SMIF ASYST LPI2200
No front-end option
Process chamber A:
Process type: SION
High frequency RF Generator: RFG5500
Low frequency RF Generator: PDX1400
Gate and throttle valve
End point detector
Manometers: 10 / 1000 TORR MKS
Ferrofluidic spindle
Clean process: IN-SITU
Gas box:
Gas / MFC Size (SCCM)
C2F6 / 5000
PH3 / 1000
O2 / 5000
SIH4 / 1000
NH3 / 3000
N2O / 10000
N2 / 10000
N2 / 5000
Heater
Shower head
Gas box exhaust
2002 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express是为处理先进半导体器件而建造的最先进的多功能蚀刻沉积反应器。这种基于批量的支持PECVD的工具为晶圆处理提供了一个通用且经济高效的平台。CONCEPT 2 Sequel Express基于革命性的"热墙"概念，使得在单个反应堆中进行集成腔室清洁、石英壁活化和沉积步骤成为可能。Hot Wall设计提供了一种高吞吐量、低成本的每晶片工艺优化方法。热墙热效率高，保证了温度分布均匀，循环时间快。Sequal Express具有多种特性，使其具有高度的通用性，包括双气体喷射器、高线性加热器、特定于温度的可编程偏置和通用源模块。双气体喷射器设计用于精确控制沉积气体的流动并提供快速循环时间。高线性加热器提供了更好的温度控制，提供卓越的蚀刻和沉积性能。特定于温度的可编程偏差可增强晶片上的性能,并在整个晶片上保持均匀性。通用源模块能够与各种气体和材料兼容,从而能够在单极和双极基板上制造高性能设备。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express还有一个集成的、先进的通风室，其设计目的是在室内保持最佳环境，同时最大限度地减少任何挥发性有机化合物（VOC）从加工室排放。通风室还可以快速、安全地从室内清除水和其他材料，确保最大限度地减少污染，保持高通量率。总体而言，CONCEPT 2 Sequel Express是先进半导体器件高效处理的突破性工具。Hot Wall设计可确保快速的热均匀性和循环时间,而双气体喷射器和其他高级功能可与各种材料和气体兼容。最后，通风室确保最大限度地减少VOC排放，同时保持最佳操作条件。
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