二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #9243045 待售

ID: 9243045
晶圆大小: 8"
优质的: 2008
CVD System, 8" With chamber 2008 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express是一种化学气相沉积(CVD)反应堆技术的工具。它是一种单晶片、小占地面积的设备,用于将薄膜层沉积在硅晶片和其他基板上。该系统采用先进的工艺控制算法和精密沉积头基板运动系统,实现了更高的精度、更快的循环时间和更高的吞吐量性能。CONCEPT 2 Sequel Express工艺允许多种薄膜材料沉积。它配备了种类繁多的工艺气体,使沉积层的均匀性和最小化。该单元利用单晶片、多区高密度等离子体(HDP)源沉积介电膜、金属化层、钝化层、屏障层。HDP工艺通过加入反应物流动聚焦(RFF)模块得到加强,该模块允许对抗氧化气体流动进行独立控制。此外,RFF模块允许生成定制和预定义的等离子体轮廓,增强沉积质量和控制膜厚度。该机还配备了专利基板级运动控制功能,旨在减少晶片上的不均匀性。此功能可精确控制底物运动和相邻薄膜的定位。低能偏压也可以引入基板,促进膜的均匀生长。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express还采用了多种先进的过程控制,以提高过程的均匀性和可重复性。它包括基板倾斜控制和可变基板偏置控制等技术,旨在确保晶圆内部和整个晶圆的均匀性。此外,该工具还具有多种原位反射仪监测资产,用户可以测量线宽、总厚度、蚀刻和沉积速率等各种质量。CONCEPT 2 Sequel Express模型是一种功能强大的CVD生产工具,用于半导体器件制造。它拥有先进的过程控制算法和精确的沉积头和基板运动系统.它能够沉积多种薄膜材料,具有独立控制抗氧化气流和可调底物偏差的功能。此外,其先进的工艺控制和现场监测设备提高了工艺的统一性和可重复性。
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