二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #171833 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一种化学气相沉积（CVD）设备，设计用于沉积一系列半导体器件制造的功能层。它是专门为在单个基板暴露中多堆迭的介电、导电和屏障材料的大体积沉积而设计的。该系统基于一个低压闭环反应堆腔室，配有两个独立调节的气源，向基板输送反应性流动。独特的两区反应堆设计允许两种或两种以上材料类型或组合的顺序沉积；该装置在不同的沉积区自动调整压力分布、温度、气流、通量和剂量等参数。CONCEPT 2 Sequel可以处理各种各样的基板，包括玻璃、硅、有机和无机材料，以及非标准材料，在创造综合性能增强的复杂多层结构时允许前所未有的灵活性。该机器包含一个专有的介电沉积模块，旨在促进先进的介电层在单个序列中的高温"快火"沉积，从而加快吞吐时间。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel提供高级图层配置文件,以实现卓越的尺寸控制和性能改进。该工具还具有变频、可变功率和可变脉宽控制等其他功能，可用于沉积剖面的深度定制。循环时间优化引擎通过跟踪沉积周期并相应地生成快速反应参数,帮助确保资产自动化和以最短的过程时间提高吞吐量。CONCEPT 2 Sequel是生产多种微设备、显示器和其他创新半导体器件的强大可靠设备。这种可靠的模型具有广泛的多用途功能,是任何生产环境的理想选择,在任何生产环境中,极致的精度和过程控制都是最重要的。