二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9066527 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9066527
优质的: 2007
LCM System, 6"
Single Chamber
Plumbed for Nitride Deposition process
Chamber mounted in Right port location
QNX4 Control Type
MC3 System
Module Controllers
2007 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一个革命性的半导体蚀刻反应器,旨在提高制造过程中的吞吐量,降低成本。反应堆利用先进的沉积和蚀刻工艺,高效制造从小存储器到大微处理器的高质量半导体元件。CONCEPT 2 Sequel是一种高速、高密度的蚀刻系统,能够以最小的基板损坏操作。它采用独特的物理气相沉积(PVD)工艺,在蚀刻前在基板上形成均匀的材料涂层。PVD还会产生高保真蚀刻轮廓,从而产生清晰、可复制的结果。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel还支持高度的流程灵活性,使用户能够根据自己的特定需求定制蚀刻参数。该系统有广泛的蚀刻配方,可以定制,以适应各种材料、压力、温度和几何要求。系统的高级算法和专家控制过程也有助于减少生产周期时间。其高效的周期启动/停止排序可最大程度地减少停机时间,并且其高度精确的蚀刻控制过程可降低蚀刻速率并减少损坏生产元件的机会。CONCEPT 2 Sequel是一款功能强大的工具,可用于多种生产过程和应用,如设备制造、平面化、化学机械抛光(CMP)和选择性蚀刻过程。其优越的蚀刻性能和较低的拥有成本使其成为工业和消费者规模蚀刻工作的理想选择。
还没有评论