二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9382778 待售
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ID: 9382778
优质的: 2005
CVD System
DLCM
VAT Type: SLIT
Left and right indexer missing
Controller missing
(3) IOC Version 4.0
TM interface PCB missing
MC1 system and DLCM controller
Chamber:
ADVANCED ENERGY 3013 RF match
MC3 controller
Interlock board
(2) IOC Version 4.1
EPD detector and controller
Gas box with 9 panel gas
(2) MC3 Module controllers
TM robot (MTR-5/Mag-7)
Process chambers
DLCM indexer Missing
No RF generator
2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是第三代沉积设备,旨在提高半导体器件制造的精度、生产率和性能。它是一个高度先进的物理气相沉积(PVD)反应堆,旨在跟上半导体工业不断改进的不懈步伐。CONCEPT 2 Sequel的两室设计由上PVD室和下气体输送室组成。封闭式PVD腔室是针对性能进行优化的定制、等离子体腔室,而下腔室则配有气体输送系统,可产生气体动态流向涂层材料。为了最大限度地提高精度和准确性,NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel的专有冷却技术利用高压、无湍流的再循环单元来保持恒定的温度和最小化气体对流,同时提供高度可重复的沉积条件。CONCEPT 2 Sequel加载了精密的功能,以确保一致和高质量的薄膜沉积。其先进的烧蚀工艺采用校准可控的斑点尺寸烧蚀,以达到模式跟踪精度。它灵活的体系结构和先进的计量技术使处理器能够量身定制配方,以提高胶片应力和步长覆盖率,其编程的阻抗调整确保了一致和可重复的结果。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel集成了许多高级过程控制功能,旨在最大程度地提高过程稳定性和可扩展性。其多面晶圆处理机为晶圆的精确对准和定向提供精确的旋转和加速度控制。它还具有高度自动化的基板处理工具、精确的阶段映射资产、用于基板识别的机械臂以及用于快速准确诊断的智能现场模型。集成到设备中的是实时、即时操作的过程控制功能,包括独特的端点检测功能。这些功能使操作员能够快速响应流程变更,从而提高吞吐量和产量,以最大限度地提高经济效益。CONCEPT 2 Sequel是一种有效可靠的沉积系统,旨在满足21世纪半导体器件制造行业的苛刻要求。它旨在最大限度地提高精度、生产率和性能,并通过优化过程稳定性和可扩展性来提高成本、吞吐量和产量。
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