二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9397737 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一种高性能、多站平面反应堆系统，旨在为沉积、剥离、蚀刻等半导体制造工艺提供先进的工艺环境。该反应堆包括一个集成的平面等离子体反应性离子蚀刻（RIE）站，是制造先进装置结构的理想平台。CONCEPT 2 Sequel at its core is a large metal box that contains a number different components required to process它包括两个主要的处理室；一个射频等离子体室和一个基于磁控管的沉积室。它还包括一个多站平面RIE站。该站可用于晶圆表面多种材料的蚀刻，如金属、金属箔、氧化物，甚至塑料材料。NOVELLUS CONCEPT 2续作拥有四个不同的处理室；用于RIE蚀刻的蚀刻室、用于化学气相沉积（CVD）的沉积室、用于化学剥离有机材料的剥离室和化学机械抛光（CMP）室。在RIE腔内，射频（RF）电源驱动等离子体产生以非常精确的过程控制直接蚀刻晶片。基于磁控管的沉积室包含两个阴极，其中一个用来产生气体等离子体，而另一个用来磁性结合等离子体内的粒子。这类沉积允许多种不同的化学过程，如等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和原子层沉积（ALD）。CONCEPT 2 Sequel还具有高度可配置的带状腔室，提供了从晶圆中去除有机材料的有效手段。CMP腔室利用高速液体浆料与抛光垫结合，机械抛光晶片，以去除任何不需要的材料并获得光滑、均匀的表面质量。总体而言，NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一种先进的高性能反应堆系统，能够制造先进的设备结构。CONCEPT 2 Sequel凭借其集成的平面等离子体RIE站，能够以非常高效的方式进行各种不同的沉积、剥离、蚀刻和CMP工艺。该反应堆系统无疑是对传统腔室顺序工艺的重大改进，使其成为制造半导体材料的理想平台。