二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9402240 待售
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ID: 9402240
System
DLCM-S
BROOKS AUTOMATION Magnatran 7
BROOKS Robot teach pendant
Indexer robot teach pendant
MC3 Module controller
Loadlock Indexer:
Indexer II
Type B Controller
Type 2 Robot
Process module A and B:
ADVANCED ENERGY RFG 5513 HF Generator
ADVANCED ENERGY PDX 1400 LF Generator
Frame assy: Sequel-X
Spindle assy type: Ferrofluidics
RF Match type: ADVANCED ENERGY Mercury 3013
MFC AERA FC-7800CD
Gas Boxes:
MFC Number / Gas / Size
MFC 1 / SiH4 / 1 SLM
MFC 5 / He / 10 SLM
MFC A / N2O / 20 SLM
MFC 2 / N2 / 5 SLM
MFC 6 / NH3 / 10 SLM
MFC 9 / NF3 / 5 SLM
MFC B / N2 / 10 SLM
MFC 7 / N2O / 1 SLM
MFC 4 / PH3 / 2 SLM
MFC 8 / O2 / 20 SLM.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一种专为先进薄膜沉积工艺而设计的高温化学气相沉积（CVD）反应器。它是一个双室系统，上腔具有用于气体输送的质量流控制器（MFC）、用于均匀通量输送的加热淋浴头以及用于电离和射频激发的等离子体发生器。反应堆的下腔包含加热到基板沉积温度的敏感器，以及一个电子压力控制器（EPC）以保持反应堆内部稳定的真空水平。该系统设计有一系列的工艺流程和温度控制机制，以保证温度的稳定和控制，以及薄膜沉积的均匀性。CONCEPT 2 Sequel使用气流和等离子体激发的组合来沉积各种材料的薄膜。它具有沉积多种不同材料的薄膜的能力，如多晶硅、铝和铜，纯度和分辨率都很高。反应堆的上腔是气体流动的地方，下腔是发生基质沉积的地方。加热的淋浴头用来将加热的反应物气体均匀地散布在基板上。反应物气体的射频激发产生等离子体，增加反应性，增加沉积速率和均匀性。电子压力控制器（EPC）在下室运行，使反应堆中的恒定压力保持在所需的水平。温度控制也是NOVELLUS CONCEPT 2续集的一个关键特性。敏感器在下腔加热，温度通过控制棒均匀分布。温度监测系统允许用户调节温度水平，以及反应速率，以保证薄膜的高质量沉积。CONCEPT 2 Sequel设计易于使用，具有直观的用户界面和自动化的监控。它是一种通用的薄膜沉积工具，具有高速度、均匀性和可靠性，适用于先进的应用。
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