二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink #293777921 待售
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ID: 293777921
晶圆大小: 8"
优质的: 2010
CVD System, 8"
(2) Chambers: Sequel and HDP Speed
Speed chamber: SiH4, H2, NF3, O2, Ar, He
Sequel chamber:
Teos process: O2
Nitride process: Sih4, Nh3, N2
Oxynitride: SiH4, NH3, N20, N2, PH3, B2H6, He, MFC
2010 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2收缩反应堆是一种先进的半导体加工工具,旨在满足半导体行业中器件尺寸收缩的需求。随着技术的不断进步,对更小、更强大的电子设备的需求变得越来越重要。CONCEPT 2收缩反应堆通过提供先进的沉积和蚀刻工艺能力来满足这一需求。NOVELLUS CONCEPT 2收缩反应堆的核心是其先进的腔室设计,它提供了优越的工艺统一性和控制性。这种腔室设计允许对温度、压力和气流等工艺参数进行精确控制,确保跨晶片一致且可重复的结果。反应堆配有多个工艺模块,每个模块都针对特定的沉积和蚀刻工艺量身定制,允许高度的灵活性和定制。CONCEPT 2收缩反应器的一个关键特征是它能够执行先进的薄膜沉积过程,如原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)。这些过程对于创建半导体器件中使用的薄膜、提供设备功能所需的必要绝缘、电导率和其他属性至关重要。反应器对工艺参数的精确控制,使得亚纳米厚度均匀的薄膜沉积,保证了器件的最佳性能。除了薄膜沉积外,NOVELLUS CONCEPT 2 Shrink Reactor还具有先进的蚀刻能力,用于模式转移和装置结构。反应堆装有等离子体蚀刻模块,可以蚀刻范围广泛的材料,选择性和均匀性都很高。这样就可以创建具有高长宽比的复杂设备结构,这对于FinFET晶体管和3D NAND闪存等高级半导体设备至关重要。CONCEPT 2收缩反应堆的设计注重生产力和成本效益,具有高吞吐量设计,最大限度地提高晶圆处理能力。反应堆能够同时处理多个晶片,减少循环时间,提高整体生产率。此外,反应堆还配备了先进的工艺监测和控制系统,可优化工艺效率,最大限度地减少材料浪费。总体而言,NOVELLUS CONCEPT 2收缩反应器代表了先进半导体加工的前沿解决方桉,提供了精确度、灵活性和生产率的组合。其先进的腔室设计、工艺模块和控制系统使其成为广泛沉积和蚀刻工艺的通用工具,使得能够开发尺寸较小、性能更高的下一代半导体器件。随着半导体工业继续推动设备小型化的极限,CONCEPT 2收缩反应堆有望在推动这些进步方面发挥关键作用。
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