二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9075495 待售
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ID: 9075495
晶圆大小: 8"
优质的: 2004
HDP CVD System, 8"
Type: Shrink
Process: STI / IMD
Wafer shape: Notch
Module A: shrink
Module B: shrink
Module B: shrink
MKS Load lock baratron
TM Robot: Mag 7
Ceramic TM Robot blade
MC1 Module controller
Existence wafer sensor
EMO: Turn to release
SECS
IOC Version: 4.1
LCD Front monitor, 12"
DLCM Gas MFC:
UPC1(L L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
UPC2(R L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
MFC3 Ar/He 500 Sccm Brooks 5964
Chamber (A, B, C):
Chamber Type: Shrink
Chamber Process: STI / IMD
MC1 Module controller
Throttle valve: MKS 651D
HF Generator: AE RFG5500
IOC Version: 4.1
Pedestal lift type: Dual position
Module turbo pump: Pfeiffer TMH 2101 PCX
ESC / Dome cooling: PCW
LF Generator: AE PDX 8000
Dual clean injector kit
Fore line type: Universal
ESC Type: DS1
Manometer 1(10T): MKS629B
Manometer 2(10T): MKS629B
Manometer 3(100 m): MKS750B
Process clean type: In situ
RF Match: MECURY 3013
Injector type: Single
Injector Size,1"
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 STEC
MFC 2 O2 500 STEC
MFC 3 NF3 1000 STEC
MFC 4 SiH4 200 STEC
MFC 5 HE 1000 STEC
MFC 8 H2 2000 STEC
System main power: 3-208 V
System UPS Power: 3-120 V
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump model: Pfeiffer TMH 260
TM Throttle valve model: Tylan
MKS TM Baratron model
2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed是一种化学机械抛光(CMP)反应器,用于使半导体晶片表面变平。它用于清除对峙、划痕和其他污染物等各种任务,创造出极为均匀光滑的表面。CONCEPT 2 Speed的设计具有非常紧凑和高效的占用空间,可轻松安装在任何类型的工作区中。这座反应堆具有两个高精度、高速的晶圆载流子,一个循环最多可处理两个300 mm晶圆。它还有一个先进的机械臂,用于晶片装卸,确保一致和高效的处理。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed可以处理大部分抛光序列,包括磁带去除器、稀释器、垫式冷凝器和润滑器。该反应堆采用柔性双磁性前后轴配置,允许对两个轴进行独立调整。这种灵活性提供了最佳的垫接触和过程控制。它还包括众多可以检测污染程度、工艺条件和垫温度的传感器。CONCEPT 2 Speed还具有强大的浆液扩散系统,在加工过程中快速均匀地分配液浆。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed配备了几种旨在提升性能的创新技术。这个反应器包括一个晶圆映射模块,可以创建精确的图样--它的种类映射,详细描述晶圆的表面层。它还有一个泥浆耗尽监测系统,监测剩余的泥浆量,防止过度抛光,并监测系统性能。总体而言,CONCEPT 2 Speed是一种先进的CMP反应堆,为大容量抛光应用提供了更好的性能和可靠性。它被设计为高效,需要最少的操作员交互,使其成为精密CMP应用的完美选择。
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