二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9093692 待售

ID: 9093692
晶圆大小: 8"
优质的: 2005
CVD, HDP System, 8". Wafer shape: Flat SMIF Interface: No PET Module: Yes Aligner option: No System main power: 208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 5 wires 3-Phase full load current: 10 amps Max component current: 5 amps System UPS Power: Yes Silt valve insert: No Silt valve type: SMC L-Motion TM Turbo pump bodel: Pfeiffer TMH260 TM Throttle valve model: MKS TM Baratron model: MKS Loadlock baratron model: MKS IOC Version: V 4.1 TM Robot type: Mag 7 TM Robot blade: Ceramic Wafer sensor: Existence Signal tower: Yes EMO's: Push button Module controller: MC1 Host interface: SECS Front monitor: LCD Monitor MFC1, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964 MFC2, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964 MFC3, Ar/H2, 500 Sccm, Brooks 5964 Sys con: C2-SCON-6582 Signal cable Chase computer Module A, B, and C: Chamber type: Shrink Chamber process: ILD Process clean type: In situ Module controller: MC1 Module turbo pump: Pfeiffer TPH2101 PCX Manometer 1 (10 T): MKS Throttle valve: MKS ESC / Dome cooling: PCW Temp monitoring: NTM500C Manometer 2 (10 T): MKS HF Generator: AE RFG5500 LF Generator: AE PDX 5000 RF Match: Trazar AMU10E-2 Manometer 3 (100 m): MKS IOC Version: 4.2 Dual clean injector kit: Yes Injector type: Single Louvered screen: No Pedestal lift type: Dual position Foreline type: Standard NF3, 1 slm, Aera FC-D980C Ar, 500 sccm, Aera FC-D980C O2, 500 sccm, Aera FC-D980C H2, 2 slm, Aera FC-D980C HE, 500 sccm, Aera FC-D980C SiH4, 200 sccm, Aera FC-D980C Deinstalled 2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed(C2S)是专为半导体工业薄膜沉积而设计的两室化学气相沉积(CVD)反应器。用于将金属和化合物如硅、钨和氮化物沉积到集成电路或IC上。该C2S旨在为用户提供一个专门为高级流程优化量身定制的可靠、高速率的工具。C2S反应堆有两个腔室,由隔壁隔开,使用化学蒸汽注入设备将反应物引入加工腔室。这两个腔室设计成同时在不同的压力、温度和流量下运行。这样就可以优化所有必要的参数,以获得所需的薄膜沉积速率和覆盖范围的均匀性。该C2S利用超高纯度的氙气对腔室加压,促进气流平滑,以及加热(2200 °C)的基板和敏感器系统,以达到最高的沉积速率。该装置设计得极为精确,在多个点提供过程控制,以确保基板表面的最高均匀度。还提供了一个计算机化控制器,允许用户根据需要方便地监测和调整压力、温度和流量参数。该C2S配备了几种先进的技术来增强这一过程,包括NOVELLUS Close Space Sublimation (CSS)技术。这项技术允许用户以比传统CVD工艺更高的沉积速率直接沉积多层钨和其他耐火金属薄膜。它还消除了对蚀刻步骤的需求,从而降低了成本,缩短了周期时间。此外,该C2S还可与NOVELLUS Endura CVD机集成,该机旨在以更高的沉积速率提供均匀的覆盖,提高工艺控制精度。该工具还允许用户实时监控、控制和优化沉积参数和过程,从而产生更好的缺陷控制和产量增加。C2S提供的高性价比和可定制功能使其成为各种先进制造应用程序的理想选择。添加的过程控制允许用户以更高的速度运行资产,同时仍在基板表面上保持所需的均匀性。凭借其可靠的性能和定制功能,CONCEPT 2 Speed Reactor为用户提供了生产先进薄膜设备的高效、经济高效的解决方桉。
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