二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9189030 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Speed
ID: 9189030
CVD-HDP Chamber.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed是一种先进的半导体加工反应器,采用超高真空(UHV)技术进行精确的薄膜沉积。这种反应器通常用于半导体制造厂,在微观水平上制造复杂的结构。反应堆的主要设计部件之一是其获得专利的射频能源,能够极精确地控制沉积层的沉积速率和厚度。反应堆还装有许多其他组件,便于精确控制沉积过程,并便于生产符合客户要求的确切规格。CONCEPT 2 Speed Reactor利用了一个直径40厘米的、包含特高压空间、一组加热线圈以及各种气体进排气口的熔炉。腔室周围有两个低压区和一个高压区,向空心基板支架输送反应性气体。该支架还装有电阻加热尾翼和法拉第笼,确保材料的精确沉积,并完全控制离子束能量。反应堆的输电设备还能够为加热、惰性气体和反应性气体沉积过程提供精确的射频能量。该系统可提供高达500 kW的射频功率,并通过软件控制,利用过程中的实时反馈。此外,NOVELLUS Concept 2 Water Speed还采用了脉冲分选技术,用于离子束蚀刻、选择性制图和其他反应堆无法使用的其他工艺。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed的冷却是通过浸入式循环器完成的,该循环器向腔壁的内圈提供冷却水。该装置确保温度保持在最佳水平,确保准确和精确的沉积。除了这些部件,CONCEPT 2 Speed reactor还包含一台计算机辅助的过程控制机。该工具能够监测温度和压力以及沉积速率,同时还提供微调沉积过程的能力。NOVELLUS CONCEPT 2 Speed是一种极为先进和精确的沉积反应器,非常适合广泛的应用。该反应器具有多种特点,可对沉积过程进行全面控制,并能够以极高的精度生产复杂的薄膜结构。
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