二手 NOVELLUS Concept 2 Triple Speed #9203792 待售

NOVELLUS Concept 2 Triple Speed
ID: 9203792
晶圆大小: 8"
HDP CVD Systems, 8" (3) Chambers.
NOVELLUS Concept 2三速反应堆是一种高科技蚀刻沉积设备,旨在满足半导体行业的严格要求。它提供了流程多功能性和快速周期时间的独特组合,从而以较低的拥有成本获得高质量的结果。Concept 2 Triple Speed使用了统一的等离子体技术,允许它在单个平台上同时处理蚀刻和沉积。这使系统能够加工各种材料,包括金属、氧化物和聚合物。它具有较高的蚀刻速率和较低的排便率,具有优异的长宽比和较高的阶梯覆盖率。该单元有三种基本模式:平面、平面和深度,在深度模式下最大纵横比可达到20:1。这允许了广泛的工艺材料和应用,从浅沟隔离(STI)到先进的互连结构。NOVELLUS Concept 2 Triple Speed专为方便高效的操作而设计,可实现更快的安装时间和更少的维护停机时间。它的设计还允许更快的晶圆传输时间,这可以降低周期时间,提高吞吐量。该机还具有多种增强工艺稳定性的特点。其中包括两个气体通道、移动媒体源和改进的气体输送工具。这使资产能够提供更干净、更一致的流程结果。该模型还具有高度灵活的体系结构,有多种选项可最大限度地提高流程能力和吞吐量。这包括集成的流程引擎、扩展的腔室配置和自动清洁解决方桉。最后,Concept 2 Triple Speed被设计为比其他系统使用更少的能量,使其操作更有效率和成本效益。总体而言,NOVELLUS Concept 2三速反应堆是半导体行业的强大解决方桉。它提供高性能、多功能性和成本效益,是各种应用程序的理想选择。
还没有评论