二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #293616585 待售

NOVELLUS CONCEPT 2（NC2）是为半导体制造设计的反应堆。它由一个6英寸低温化学气相沉积（CVD）反应器组成，能够进行超高通量沉积过程。其高吞吐量、低成本和灵活性使其成为生产提升和技术迁移的理想工具。该NC2具有获得专利的脉冲/连续工艺能力，结合了两种沉积方式的优点。通过脉冲处理，保持温度，同时以脉冲方式施加激光，以减少氮含量。当激光脉冲以均匀方式连续发射时实现连续处理。这种技术的组合允许卓越的过程控制和优化的增长率，化学成分，和薄膜厚度。该NC2还有一个创新的分流工艺室，提高了对纤薄沉积的一致性。分流室维持两个气流之间的边界，允许高度的一致性均匀性和均匀的薄膜厚度与最小的空隙。分流室是典型的350-450C沉积温度的理想选择，即使在困难的基板上也能生产高质量的均匀涂层。该NC2有一个零阻力的冷墙设备加上先进的膜粘附系统。这种零电阻冷壁元件可提高沉积速率，增强晶圆温度均匀性，提高整个晶圆高度的薄膜厚度均匀性。自适应膜粘附单元有助于减少由于吸附而产生的不均匀性，确保能够始终如一地实现最佳膜的形成。该NC2设备齐全，可以应对许多先进制造技术的挑战。它具有预蚀刻和后蚀刻武器模块的能力，允许沉积具有极端保形性的层。此外，还可以在NC2中添加二次辐射源，进一步扩大其能力。这使得它成为技术发展和试制非易失性内存设备、OLED显示器、生物传感器等的理想工具。最后,CONCEPT 2为解决半导体制造的挑战提供了一种创新且经济高效的解决方桉。其专利脉冲/连续工艺提供了优良的工艺控制和薄膜均匀性。其裂流室增加了对超薄沉积的共形性。其零阻力冷壁和先进的薄膜粘合机在晶圆高度上提供了更大的均匀性，减少了薄膜沉积的不均匀性。最后，其次要来源为先进制造技术的武器库增添了强大的工具。