二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9069052 待售
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ID: 9069052
晶圆大小: 8"
CVD system, 8"
Includes:
Wafer shape: Flat
SMIF Interface: No
Aligner: No
System main power: 3-Ph, 5-wires, 208 V
Module A: Standard
Process A: Sio2
Module B: Standard
Process B: Sio2
TM Throttle valve: TYLAN
TM Robot type: MTR5
TM Robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Existence
Loadlock baratro model: 275 Mini convectron
TM Baratron model: Tylan 100 Torr
EMO: Turn to release
DLCM IOC Version: 4.0
Module controller: MC1 P100
Front monitor: Side
Module A:
Chamber type: Standard
Module controller: MC1
Process type: SIO2/SIN
Manometer: Mykrolis, 10 Torr
Manometer: Tylan 1000 Torr
Process clean type: In-Situ
HF Generator: OEM-28
Heater block type: 6-Station
Endpoint option: N/A
Spindle top plate type: (1) Piece
Spindle type: Ferroflo seal
Throttle valve: Tylan
RF Matcher: AMU2-1
IOC Version:
IOC0: 4.1
IOC1: 4.1
IOC2: N/A
LF Generator: PL-2HF
Foreline gate valve: VAT
Chamber gas box:
MFC # | Gas name | MFC size | MFC model
MFC B, N2, 10 SLM, Brooks 5964
MFC A, N2O, 20 SLM, Brooks 5964
MFC 9, C3F8, 2 SLM, Brooks 5964
MFC 8, O2, 3 SLM, Brooks 5964
MFC 6, NH3, 10 SLM, Brooks 5964
MFC 2, N2, 5 SLM, Brooks 5964
MFC 1, SIH4, 1 SLM, Unit UFC 8160
Module B:
Chamber type: Standard
Module controller: MC1
Process type: SIO2/SIN
Manometer: Mykrolis, 10 Torr
Manometer: Tylan 1000 Torr
Process clean type: In-Situ
HF Generator: OEM-28
Heater block type: 6-Station
Endpoint option: N/A
Spindle top plate type: (1) Piece
Spindle type: Ferroflo seal
Throttle valve: Tylan
RF Matcher: AMU2-1
IOC Version:
IOC0: 4.1
IOC1: 4.1
IOC2: N/A
LF Generator: PL-2HF
Foreline gate valve: VAT
Chamber gas box:
MFC # | Gas name | MFC size | MFC model
MFC B, N2, 10 SLM, Brooks 5964
MFC A, N2O, 20 SLM, Brooks 5964
MFC 9, C3F8, 2 SLM, Brooks 5964
MFC 8, O2, 3 SLM, Brooks 5964
MFC 6, NH3, 10 SLM, Brooks 5964
MFC 2, N2, 5 SLM, Brooks 5964
MFC 1, SIH4, 1 SLM, Unit UFC 8160.
NOVELLUS CONCEPT 2反应器是一种具有革命性工艺的化学气相沉积(CVD)设备,其设计目的是在原子层沉积(ALD)平台上提供高沉积速率、高质量的薄膜以及卓越的生产率和可靠性。CONCEPT 2反应器的主要特点包括:薄膜沉积的亚一纳米工艺控制;沉淀率高,胶片质量好;能够精确控制沉积环境,从而实现整个过程控制;先进的基板温度控制和均匀加热,允许高吞吐时间;突出的同质性和均匀性。NOVELLUS CONCEPT 2反应器由于腔室尺寸小,沉积速率很高,而且有一个特殊的配方控制系统,可以对聚合物、金属氧化物和金属等多种材料进行精确沉积。沉积过程从引入原料气体开始。这种气体被送入底物所在的反应室中。然后将反应室加压加热至所需温度。这使得原料可以蒸发,然后被真空带走。沉积过程由先进的过程控制单元调节。本机可监测温度、压力、气流等反应参数,并能进行调整,达到理想的效果。薄膜的均匀沉积是由于基板加热高度均匀而实现的。CONCEPT 2反应器在腔内提供出色的热均匀性,确保整个反应过程温度均匀。这保证了均匀生长和改善膜性能。NOVELLUS CONCEPT 2反应堆还配备了强大的后处理工具,允许精确的膜均匀性调谐。此资产允许用户优化薄膜成型,确保产品层满足产品要求。该模型还允许用户快速测试配方,而无需经过每个沉积过程的过程。最后,CONCEPT 2反应器是一种革命性的CVD设备,其设计目的是在原子层沉积(ALD)平台上提供高沉积速率、高质量的薄膜以及卓越的生产率和可靠性。由于腔室体积小,配方控制系统特殊,具有较高的沉积速率,同时提供了良好的腔内热均匀性,以保证均匀生长和改善膜性能。此外,它还具有强大的后处理单元,可进行精确的膜均匀性调整,使其成为薄膜沉积的理想机器。
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