二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9212169 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是一种中等规模、低压的化学气相沉积（CVD）设备，设计用于大批量生产薄膜集成电路。它采用单室工艺进行氧化物和氮化物的沉积，提供了低缺陷率的高通量率。CONCEPT 2具有十个沉积源的卓越性能,可在整个基板表面提供非凡的均匀性。NOVELLUS CONCEPT 2以低压反应物流建造，具有专为氧化物和氮化物沉积而设计的控制压力。该腔室采用封闭的圆柱形设计，采用采用多气体系统的两区高速热工艺。它有两个内部气体歧管，允许更高的总气流以增强均匀性，还有一个可选的内部屏障层以提高吞吐量。利用精确控制的抛物面射频能量场使反应物气体电离。这导致反应发生在晶片表面，最终导致薄膜层的沉积。CONCEPT 2配备了高速率、多组分气体输送单元。本机保持受控反应物压力，提供极好的均匀性。NOVELLUS CONCEPT 2采用自对准横向质量流量计，以确保稳定、可重复的压力模式和准确的气体流速。此外，该腔室对每种反应物气体使用单独的质量流控制器和歧管压力控制器。这有助于在整个沉积过程中确保高水平的可控性和精确的气体输送。CONCEPT 2还提供了与领先的独立CVD系统相同的基板加热工具。该资产可确保各种基材的异常温度均匀性和可重复性。加热模式也是可调的，允许用户根据自己的特定基板和工艺要求量身定制温度曲线。这些高级功能的结合使过程控制得到全面改进,并提高了吞吐量和蚀刻质量。为了进一步提高工艺性能,NOVELLUS CONCEPT 2采用了先进的淋浴头技术.这一技术通过在每个淋浴头口使用独立的闸阀提高了吞吐量和均匀性，从而改善了反应物气体的分布，防止了有害副产物的积累。淋浴头技术的加入大大改善了整个基板表面的工艺窗口和均匀性。综上所述，CONCEPT 2是一种低压CVD设备，设计用于高容量和优越的基板均匀性。是薄膜集成电路大规模加工的理想选择。该系统的先进特性，如多气体输送、抛物面射频能量场、淋浴头技术，使其在经常具有挑战性的CVD环境中成为强大可靠的工具。