二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9212229 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是半导体工业中用于蚀刻的高密度等离子体反应器。它是一个单室垂直型反应堆，模块化设计，有详细的工艺控制设备，允许晶圆的高精度蚀刻。该系统建有真空室、供气单元、射频（RF）供电系统和过程监测机。该过程发生在一个金属室内，该金属室被隔热以保持内部接近真空的环境。真空是蚀刻工艺的必要条件，是蚀刻工艺成功的根本要求之一。气体分子，特别是氧和氢，被用作蚀刻剂和还原剂，从晶圆表面蚀刻材料。对气体流动和等离子体形成的精确控制对于该过程的成功至关重要。该反应堆利用13.56 MHz的射频频率和高达1500W的功率水平产生辉光放电并形成反应性物质，用于蚀刻晶圆表面所需的图样。工具的射频功率、气流、运行温度由公司先进的控制资产精确控制。射频电源模型负责驱动射频发电机。它为输入功率提供精确控制，确保电力准确供应给发电机。气体输送设备提供对气体流动的精确控制，允许对系统中的蚀刻气体进行精确的成分控制。设备的温度分别通过热传感器和热控制器进行监测和控制。过程监视机负责在蚀刻过程中监视晶片。该工具允许实时观察蚀刻过程，使操作员能够优化过程以获得更高的收益率和更高的收益率。CONCEPT 2是一种用途广泛、可靠的蚀刻资产，旨在满足半导体行业最严格的需求。其模块化和精确的工艺控制保证了整个行业的最高蚀刻质量。该公司为客户提供完整的维护和技术支持解决方桉，允许其高功率蚀刻型号的无忧安装和操作。