二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9251350 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是一种流行的多站CMP（化学机械抛光）反应器，旨在提供改进的抛光性能和高通量，同时降低整体成本。CONCEPT 2是为半导体生产而开发的，并广泛应用于半导体生产，因为它结合了抛光室、载流子系统和现场监控，以最大限度地提高工艺效率。NOVELLUS CONCEPT 2被设计为全功能的CMP反应堆，提供多种特性和能力来优化抛光性能。CONCEPT 2利用称为TrimodalTM的气体水平流和浆液流的组合来提高过程的均匀性和减少化学消耗。此功能允许针对每种抛光配方或应用的特定过程优化气体、浆料和压力水平的单独设置。此外,标准的调制负载控制（MLC）功能可优化抛光过程中晶片上的压力分布,以确保单个晶片以及整个生产批次的表面均匀性。NOVELLUS CONCEPT 2的核心是它的控制系统。这包括了最先进的CMP配方，可以通过串行控制总线方便地从一个站点转移到另一个站点，控制系统能够监测到力、转速、温度和压力等因素。它还对对于成功抛光至关重要的参数（如薄膜厚度、表面粗糙度和均匀性）使用参数反馈。CONCEPT 2反应堆作为首屈一指的CMP反应堆之一赢得了半导体应用行业的地位。它提供可靠、高效和经济高效的抛光性能,并有可能将CMP成本降低30%。其高级功能与卓越的性能相结合,使其成为大多数生产运行的理想工具。