二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9251351 待售

NOVELLUS CONCEPT 2是为半导体制造而设计的化学机械平面化（CMP）反应器。与其他CMP系统相比,它是一种先进的工具,可提高性能和生产率。它用于在半导体晶片上创建高度均匀且平整的表面,从而确保最终产品的适当电气连接。CONCEPT 2反应器利用旋转垫头在晶圆和抛光垫之间建立一致的接触水平。这使得晶圆表面的抛光更加均匀。反应堆还采用了改进的输水设备，进一步提高了抛光工艺的均匀性。输水系统将平面化率提高到40%，可以根据应用情况进行调整。此外，新反应堆的噪声水平大大降低，热管理单元效率更高，有助于延长部件寿命。NOVELLUS CONCEPT 2反应堆利用倾斜校正、各种压力控制、先进反馈调节等多种精密特性，提高了表面均匀性，降低了拥有成本。倾斜校正功能确保晶片的底压在整个抛光过程中保持一致。压力控制系统允许精确控制施加到晶圆上的压力量。这个参数可以调整，避免产生热点，减少晶圆损伤，提高抛光效果。先进的反馈调节机监控工艺参数，允许对抛光工艺进行实时优化。除了先进的技术CONCEPT 2反应堆提供外，它也比其他CMP反应堆更有效率。改进的热管理工具、先进的喷嘴设计和优化的过程控制有助于降低产品温度和减少材料损失。这导致更快的周期时间和更高的收益率。NOVELLUS CONCEPT 2反应堆还提供优越的用户控制和诊断能力。反应堆与先进的过程控制和生产管理系统兼容，允许用户密切监视反应堆的运行，纠正可能出现的任何问题。总体而言，CONCEPT 2 CMP反应堆提供了改进的性能、更高的效率和改进的用户控制能力。该反应堆采用的先进技术使其成为满足半导体生产复杂需求的理想选择。