二手 NOVELLUS CONCEPT 2 #9315487 待售
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ID: 9315487
CVD System, 8"
Mainframe
Wafer type: Notch
System and module controller: MC1
SSD
Index robot: Type II
Magnetron 7 Transfer robot
Endpoint detector
Sequel chamber:
Sequel express
DLCM: S0862
Process type: Nitride
IOC Version: 4.2
Gas box configurations:
Gas line / Gas flow (SCCM) / MFC Make / MFC Model
SiH4 / 750 / HORIBA / Z512
N2 / 5000 / UNIT / UFC1661
SiH4 / 350 / HORIBA / Z512
He / 10000 / UNIT / UFC1661
NH3 / 10000 / UNIT / UFC1661
He (Aux) / 1000 / UNIT / UFC1661
NF3 / 5000 / UNIT / UFC1661
N2O / 20000 / UNIT / UFC1661
N2 / 12000 / UNIT / UFC1661
CO2 / 20000 / UNIT / UFC1661
2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2反应器是一种环保的反应性离子蚀刻设备,旨在提供高密度等离子体的精确蚀刻能力。反应物气体被加热使组成等离子体的气体电离,使气体加速走向金属表面。当反应物离子撞击金属时,各个离子的能量被消耗掉,以去除表面的金属原子。此外,这使得对蚀刻工艺的高度控制能够创建一个统一的基板。这是CONCEPT 2解决方桉所采用的方法。NOVELLUS CONCEPT 2系统使用户能够实现更高的生产率、更长的运行时间和改进的过程控制。它能够处理任何厚度的层,从薄膜到较厚的结构。流速可以按顺序进行精细调整,以创建所需的蚀刻结构。该单元包括几个功能,这些功能旨在保护环境并确保操作过程中的最高清洁度。这包括一个空气回收机过滤掉任何颗粒,在进料点的第二个壁防止任何反应物泄漏到外部环境,以及一个专用的排气线,引导任何反应远离生产区域。CONCEPT 2工具被设计为非常高效,提供的处理步骤比其他RIE系统少30%。整个资产(包括电源和控制器)的大小适合应用程序,因此用户可以根据需要自定义其设置。该模型还包括一个可选的Current Tuning功能,允许用户调整电源设置以达到理想效果。这是一个有用的功能,因为它可以节省时间并提高设备性能。NOVELLUS CONCEPT 2还附有全套控制功能。这些功能使用户能够精确控制工艺参数,如蚀刻速率、温度、气流和压力。此外,还可以通过图形用户界面远程监视和调整系统。这样可以确保以一致的方式实现所需的蚀刻结果。总体而言,CONCEPT 2是一个功能强大的蚀刻单元,提供精确和高级的控制功能。NOVELLUS CONCEPT 2通过显着减少处理步骤和强大的安全协议,非常适合各种应用,从薄膜蚀刻到先进的设备制造。
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