二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293617998 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus是一种先进的物理气相沉积（PVD）工具，设计用于半导体工业。其目的是将材料的薄膜沉积在晶片上，以创造各种不同的层。Altus是一种高度通用的系统,它使客户能够沉积各种材料,如铜、铝、铜-氙合金和钻石。Altus由两个主要组成部分：工艺室和基板处理程序。工艺室是发生沉积过程的室。它有一个孤立的低压环境，薄膜的前体可以安全地引入并分散在晶片上。基板处理程序负责将晶片送至加工室,并在沉积完成后取回晶片。Altus采用了几种不同的技术来确保最高质量、最均匀的薄膜。其中包括先进的底物预调理,以确保沉积前与底物的最高均匀性, Cone Jet nFractionation，负责前体在基板表面的均匀分布， 以及可编程的目标反射，使客户能够精确调整被施加到晶圆上的薄膜的沉积速率和厚度。该系统设计为能够以极高的吞吐量运行,尤其是使用可选的驱动器因子扩展升级。此次升级增加了可以同时处理的晶片数量，同时保持了片内高度的均匀性和可重复性。Altus还提供了许多有助于保护用户的安全功能,使其成为市场上最安全的PVD系统之一。这包括一个用于加工室的安全外壳，以及一个先进的快门系统，可以安全控制前体。综上所述，Concept 3 Altus是一种功能强大且用途广泛的PVD工具，能够在晶片上沉积多种材料，具有高度的均匀性和可重复性。它的高级功能使其能够安全快速地处理高吞吐量。