二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293638913 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus是一种为半导体生产而设计的化学气相沉积（CVD）反应器。它采用等离子体增强热工艺，将多种介电和金属膜沉积在半导体晶片等基板上。Altus集成了先进的功能,以提高性能、蒸汽输送和均匀性,从而实现薄膜的精确分层。Altus由一个射频源提供动力，该射频源在反应堆腔内维持一个氙或氦基等离子体。底物暴露在微波中，产生蒸发的热量，并将前体分解成超原子大小的分子。这些超级原子在加热的基板上传播，附着在先前沉积的原子上，形成均匀厚度的薄膜。Altus提供先进的工艺参数控制，提供脉冲进料和可调偏压，提供精密蚀刻，提供均匀的薄膜沉积，并提高了吞吐量。快速前体交换也将不同序列之间的污染降至最低。Altus还拥有独特的腔室设计,可实现更好的均匀性,并配有快速更换的画笔组件,用于精确清洁。Altus具有多种安全功能,可保护系统免受过热和用户的潜在危害。它有一个带有模拟和数字输入和输出的CPU控制系统，以便于集成到现有的系统和应用程序中。此外，该装置通过先进的多头机械臂进行操作，以提高准确性和灵活性。概念3 Altus非常适合半导体生产行业的先进和苛刻的应用，提供高效、均匀的薄膜沉积、先进的清洁和安全能力以及先进的层级和工艺控制。这座可靠且用途广泛的反应堆是工厂和其他生产设施的巨大投资。