二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293758414 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus（"Altus"）是由NOVELLUS Systems开发的高性能、下一代等离子体反应堆。Altus能够加工多种材料，从热氧化物到氮化钛，工艺均匀性最高，吞吐量性能最高。Altus的先进设计利用新颖的技术提供了可重复、卓越的性能,能够处理10纳米及以下的特征宽度。Altus的核心是其先进的气体输送系统，该系统提供了独特的双等离子体源方法，在整个腔室宽度上提供更均匀的等离子体。两个磁控管允许等离子体在基板上进一步延伸，形成一个强烈的磁云，在整个基板上提供更均匀的温度。双等离子体源还为加工多种材料提供了增强的灵活性，包括热氧化物、氮化钛、碳纳米管、碳化硅、氮化氙和氮化铝。Altus反应堆利用具有先进脉冲技术的电容耦合射频（RF）电源。该技术利用一条可切换的电源线路向等离子体源提供更稳定的电源,随后可以更好地控制等离子体参数并最大限度地减少对基板的损坏。同时，RF功率允许过程的快速温度斜坡上升和冷却，以控制材料加工条件Altus反应堆还配备了先进的腔室和基板几何形状，从而可以实现优越的阶梯覆盖和高度均匀的工艺层。腔室几何形状包括一个长而宽直径的挡板容器，其设计目的是创造一个均匀的加热气体分布，同时保持现代尖端应用所需的晶片到晶片均匀性。基底几何还有助于减少基底阴影、折射和聚焦效应，从而导致非均匀性。Altus系统提供高效、节能的性能,并缩短了周期时间以实现持续的高吞吐量性能。通过利用更大范围的参数,Altus系统提供了更高的沉积速率、更高的薄膜质量和更好的吞吐量速率-占用率（TRDC）比率。Altus还可以通过更新的技术或流程更改轻松升级。这使工程师和操作员能够跟上最先进的技术,同时保持当前的流程。