二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #293767145 待售
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ID: 293767145
优质的: 2007
WCVD System
Chamber position / Gases
Unit 1 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N
Unit 2 / WF6, AR, NF3, SIH4, H2, B2H6, N2
2007 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Altus是一种PECVD反应器，利用射频等离子体沉积碳化硅、氧化铝等保形薄膜材料。该反应器专门为要求苛刻的保形和定向高阶工艺模块如薄膜处理、抛光、氧化和布线等而设计。Concept 3 Altus采用改进的设计,增加了晶圆负载容量,提供了极好的均匀性和最小的粒子生成。该装置建立在100毫米x 200毫米的基板上，包括一个先进的离子源，产生高沉积速率和低应力的快速移动等离子体。先进的光束技术生产出具有良好薄膜均匀性的保形涂层，确保被加工装置均匀覆盖。这种离子源可以在较低的温度下操作，有助于降低能耗，提高机组的整体寿命。NOVELLUS Concept 3 Altus融合了独特的双排量设计，提高了性能。该设备的特点是上室和下室通过双线束桥连接。这种设计允许更大的装载能力和更好的覆盖大基板，并有助于产生更高的沉积速率和沉积均匀性。反应堆还有一个精密的双面气体引入系统，在基板上产生均匀均匀的气流。该装置具有位于基板上方和下方的独立气体闸门，有助于产生较高的沉积速率和较低的沉积应力。Concept 3 Altus还包括改进性能的高级自动化功能。它包括一个用户友好的监视器面板，允许用户方便地监视机器的参数，并从监视器屏幕启动命令。该工具还允许与其他反应堆系统轻松集成，这有助于简化生产过程，降低运行成本。总而言之，NOVELLUS Concept 3 Altus是一个强大的PECVD反应器，能够产生广泛的保形薄膜和沉积。它拥有精巧的设计、出色的均匀性、改进的装载能力和智能自动化。这些特性使概念3 Altus成为那些寻求可靠、高效和经济高效的PECVD反应堆的人的理想选择。
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