二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #9316137 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor是一种高性能、多功能的沉积设备，在多种工业应用中用于动态膜沉积。该反应堆采用先进的非现场光学系统，旨在实现过程的稳定性、可靠性和结果的可重复性。概念3阿尔特斯反应堆由一个离子源、等离子体室、预清洁室和沉积室组成，并带有一个10级、4区加热单元。晶圆配置经过优化,可最大化热扩散并最小化温度梯度,从而确保过程的一致性和准确性。离子源被设计成产生高能离子，用于蚀刻底物和/或产生等离子体密度，使等离子体室内的粒子与底物相互作用。这种相互作用通过用于涂覆材料的气相沉积过程形成薄膜。等离子体室用于在高温下产生和维持等离子体，使粒子在沿着圆柱形路径到达基质时保持在气相中。预清室用于在沉积发生前清除污染物，10级4区加热机设计为保证过程稳定和温度均匀。NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor的设计旨在确保蚀刻和沉积模块与自动控制功能之间的卓越集成。它能够进行高分辨率蚀刻、化学气相沉积、原子层沉积和溅射过程。其先进的运动控制系统促进了多达16个独立晶片级的同时控制，这对于严格公差过程控制和产品均匀性至关重要。概念3 Altus反应堆是各种工业沉积工艺的理想选择。它提供高性能、过程稳定性和可靠的结果以及可重复的性能。其先进的运动控制系统和精确的温度调节使其成为任何工业薄膜沉积应用的经济高效的解决方桉。