二手 NOVELLUS Concept 3 Altus #9375600 待售

NOVELLUS Concept 3 Altus是一种中体积化学气相沉积（CVD）反应器设备，用于半导体制造，用于硅基、外延或多晶膜的沉积。概念3 Altus是为了提高现有的CVD反应堆能力而开发的，重点是最大限度地提高能力、灵活性和吞吐量。反应堆系统的创新特点包括其获得专利的双室设计，优化了机组的吞吐量。机器设计的基础是获得专利的双室技术（DCT），采用多区域布局拓扑。这种安排允许两个独立自调整的微型腔室在主腔室内共享表面积，从而更有效地利用反应腔室空间。通过划分反应室,NOVELLUS Concept 3 Altus利用了许多宝贵的工艺能力,同时减少了所需的工艺步骤数量。通过在一个反应区内结合气体淬火和反应性再生，消除了沉积过程的不均匀性和不可重复性等许多典型的CVD反应器挑战。概念3 Altus配备了许多其他功能，旨在最大化反应堆和工艺性能。该工具能够执行高温汽化和预溅射等高级工艺步骤，以提高膜的均匀性和工艺的可重复性。此外，资产配备了独特的气体溷合能力，使两种工艺气体能够以精心调节的方式合并，进一步提高了工艺的准确性和可重复性。NOVELLUS Concept 3 Altus的高级功能,加上强大的设计,使其能够在业界标准的CVD平台中提供卓越的性能和可靠性。与传统的CVD系统相比,Concept 3 Altus利用获得专利的Dynamic Chamber Technology提供了卓越的吞吐量和薄膜均匀性。此外，反应器模型还利用气体溷合、高温汽化、预溅射等多种先进特性，优化了沉积过程的性能。总体而言,NOVELLUS Concept 3 Altus是一款创新的CVD设备,可提供最佳性能、灵活性和吞吐量。