二手 NOVELLUS Concept 3 Inova #293638672 待售

NOVELLUS Concept 3 Inova是一种多工具、六室半导体反应器，设计用于三维集成电路的高级蚀刻、沉积、植入和退火工艺。它结合了广泛工艺能力的灵活性和能够6kW电力输送的大型腔室设计。Concept 3 Inova采用了专利的漂移补偿室几何形状,旨在提供等离子体均匀性和功率密度,同时针对高通量和高产工艺的最佳结果进行优化。模块有几种扫描模式，允许用户自定义工艺腔，以达到最佳效果。NOVELLUS Concept 3 Inova可以支持单晶片和晶片到晶片集群的配置。它有一个水平载荷锁，能够分别容纳多达13和28个均匀的200 mm或300 mm晶片，使其实现高生产率和效率。负载锁定还采用了销钉回收技术，减少转移过程中积累的任何静电荷，以尽量减少辐射引起的粒子效应。概念3 Inova的蚀刻工艺包括湿法、干法和等离子体蚀刻工艺。干蚀刻系统可以提供高选择率,具有不同的配置,以适应广泛的材料、特征大小和工艺层。湿蚀刻工艺提供了额外的灵活性和较低的成本效益,但需要额外的工艺控制才能获得高精度结果。等离子体蚀刻系统具有很高的吞吐量，特别适合大批量使用。FECVD和PECVD系统也包含在NOVELLUS Concept 3 Inova中。前者在低电耗的情况下提供了强大的沉积能力，而后者则为大多数材料提供了标准的工艺选项，如硅PECVD、氮化物PECVD和氧化物PECVD。Concept 3 Inova还包括可配置为满足从低温退火到高温退火的一系列工艺要求的晶度系统和退火系统。它还提供了一系列可配置的光束能量和植入几何图形的植入能力，以达到最佳的牺牲晶片质量。为了便于持续的过程监控，NOVELLUS Concept 3 Inova包含了一个车载诊断系统。这包括一系列用于测量所有关键参数的传感器，以及复杂的跟踪和反馈控制。它还包括各种原位气体分析选项，允许用户在过程周期中检测和分析潜在的破坏性颗粒。