二手 NOVELLUS Concept 3 Inova #9281509 待售

NOVELLUS Concept 3 Inova是一种支持等离子体的化学气相沉积（CVD）工具，设计用于在各种底物上高调、原位等离子体辅助的薄膜层沉积。它是专门为各种底物上的先进薄膜沉积工艺而开发的，不需要任何额外的沉积后处理步骤。Concept 3 Inova配备了获得专利的"ZoneLock"技术,该技术可提供温度精度和控制,以实现跨多个晶圆的广泛的过程分析功能。CVD反应器由三个不同的室组成：一个引入室、一个工艺室和一个处置室。引入室用于预制基板，而加工室则是主要加工区域，材料暴露在高温反应堆和加工气体中。处置室用于安全处置未反应的反应物、烟雾和副产物气体。NOVELLUS Concept 3 Inova的动态反应环境由独特的"等离子带"技术创造。这是一个超活性气化带，底物和反应物在高能等离子体场中沐浴，使得材料能够精确反应和沉积。反应性气化，如氟和氧气，是通过高度调节但动态的超音速射流产生和控制的。先进的等离子体区域控制技术还可以实现优于复杂特征几何形状的掺杂控制和均匀沉积。Concept 3 Inova还有一个特殊的旋转设计，进一步增强了跨层的均匀性。旋转式设计提供了广泛的基材尺寸，可以支撑直径达300毫米（12英寸）的晶片。整个系统被封装在一个环境室中，该室设计用于在整个沉积周期中严格的精度和控制。NOVELLUS Concept 3 Inova CVD系统汇集了几种最先进的技术，提供具有卓越统一性和过程控制的世界级沉积。这种CVD反应堆扩展了NOVELLUS系列产品的功能,并为用户提供了一种经济高效、可靠的过程,从而实现了先进的设备制造。它是各种基板上精确沉积应用的理想选择，如超导半导体材料、精密光学、微机电系统（MEMS）。