二手 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9170857 待售

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是为先进的薄膜沉积应用而设计的反应堆。该反应堆采用先进技术，可精确控制薄膜生长和保形涂层。概念3 Speed NEXT反应堆提供三个独立的沉积区，以满足各种需求和灵活的配置。反应堆的三个沉积区中的第一个是主要沉积区。这是一个低功率区域，可定制金属沉积配方和保形涂层。主要沉积区包括独特的工艺步骤组合，可以在优化膜厚度均匀性和步长覆盖的同时进行精确控制。它具有微微/纳米缩放沉积能力，能沉积/蚀刻屏障和附着层、源层和复杂的金属结构。第二个沉积区，即表面处理区，提供了实时的表面修饰和附着层，以增强膜的生长性能。该区域具有反应性离子蚀刻、全表面处理、选择性表面处理和沉积前表面处理等特点。它旨在在保持保形涂层特性的同时取得优异的效果。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT的第三个和最后一个沉积区是高沉积区。该沉积带提供了急需的高沉积速率，这允许了最苛刻的沉积要求。高沉积率区是为沉积厚膜而设计的，具有一致可靠的均匀性和阶梯覆盖率。概念3 Speed NEXT反应堆能够处理各种薄膜沉积应用，从汽车部件到半导体、平板显示器、光电、MEMS，以及医疗、航空航天和能源应用。反应堆提供了集成的薄膜架构，具有优越的工艺控制和均匀性，以最大限度地提高吞吐量和性能。它是寻求先进薄膜沉积应用的理想解决方桉。