二手 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9170858 待售

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ID: 9170858
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
CVD Systems, 12" (3) chambers 2005 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是一种最先进的反应堆,用于在基板上形成超薄膜。这座反应堆基于3速循环法,设计目的是将CVD工艺缩短多达50%。它能够在短短几秒钟内形成薄膜和台阶,从而节省时间和金钱。概念3 Speed NEXT反应堆由三个独立的源和一个炮塔头组成。这三种来源分别是氦气、氮气和移解气。炮塔头装有三个静电限制口,两个用于应用电离等离子源,一个用于物种中和。等离子体源提高了反应速度,提高了膜的性能。三源概念的主要优点是薄膜厚度均匀,热损伤减少,沉积参数完全控制。三速循环方法的工作原理是改变压力、温度和反应物浓度。这允许在很短的沉积时间内形成非常薄的薄膜或台阶。三速循环可确保薄膜均匀地沉积在整个基板上。这是通过三个源的平衡温度分布、增强的反应物扩散以及对敏感底物的低热损伤而得以实现的。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT反应堆的设计是为了提高吞吐量,同时提高薄膜形成的整体质量。它具有较高的吞吐量能力,能够更快地响应生产环境中不断变化的需求。此外,它还提供了改进的工艺控制、均匀的薄膜厚度以及更好的晶片表面均匀性。总体而言,Concept 3 Speed NEXT反应堆是一个强大而灵活的工具,用于在先进的设备生产中创建高度均匀的薄膜和步骤。它提供了其他技术无法比拟的成本和时间效率。这使得它非常适合需要极高精度和可靠性的各种应用。
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