二手 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9294439 待售

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT
ID: 9294439
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
HDP CVD System, 12" 2004 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是一种高速、精密工程的反应器,用于金属和其他薄膜材料的沉积。该设备设计用于半导体、MEMS和太阳能电池行业,能够为要求最苛刻的应用提供先进的指标。概念3 Speed NEXT基于低温、感应耦合等离子体(ICP)源,该源具有低压氢基等离子体发生器,能够沉积一系列金属元素。该系统运行在0.6至0.7 mTorr之间,可实现卓越的过程控制和灵活性。另外,ICP源由于其高斯形等离子体通量而增加了过程均匀性,从而降低了非均匀性的可能性。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT采用紧凑的模块化设计,在使用各种产品尺寸时具有灵活性。该装置的特点是配气机平衡前体比例,以保持均匀的膜生长速度。刀具的自动中心定位功能可纠正生产过程中由于产品轻微运动而可能出现的任何未对齐现象。Concept 3 Speed NEXT由于其"直接注入"沉积技术而具有跨各种产品结构处理高膜步长的能力,该技术采用单一注射源进行更广泛的涂层。这样就可以形成具有复杂几何形状的离散金属层。该概念包含了优越的晶圆尺寸可重复性资产,可实现最佳晶圆到晶圆的重复精度,最高可达100个25微米标称直径。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT具备最先进的安全和控制功能。它的氮气屏蔽容器和智能操作员安全功能保护人员免受任何有害的过程材料。该模型还设计用于将由于高级维护监控和诊断功能而导致的过程停机时间降至最低。这种先进的技术提供了极致的速度和精度。由于概念3 Speed NEXT先进的沉积控制,可获得高质量的结果和优越的层均匀性。该设备旨在提供可靠和准确的沉积工艺,以最大限度地提高产量和吞吐量,同时保持低成本。NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT是任何要求苛刻的薄膜涂层应用的完美解决方桉。
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