二手 NOVELLUS CONCEPT 3 #162059 待售

製造商
NOVELLUS
模型
CONCEPT 3
ID: 162059
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Sputtering System, 12” 2 chambers 65/90nm 2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 3是一种最先进的化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于半导体晶圆的大批量工业生产。它是为实现卓越的工艺均匀性和设备质量而设计的,这对于生产可靠的集成电路至关重要。CONCEPT 3具有三室设计。顶室使用一个由石英和源气体入口构成的压板,该压板位于墙壁上,为将连续层薄膜扩散和沉积到基板上创造必要的环境。中间腔室提供维持顶部腔室产生的挥发性反应物质反应所需的温度控制。底部腔室是根据需要在腔室之间传输晶片的传输区。这三个腔室同时在多个晶片上沉积优质薄膜。反应堆的电极定位在紧邻基板的位置,允许极好的均匀性。这种布置还提供了利用频率控制的射频电源独立和精确地加热或冷却基板的能力。此功能可精确控制每个晶片内的薄膜厚度、成分和热稳定性。NOVELLUS CONCEPT 3利用了最先进的安全和自动化功能。使用人机界面可以最大限度地优化参数和远程监控过程状态。此外,该软件还设计用于大批量生产、数据收集和报告。CONCEPT 3是寻找高性能CVD反应堆的公司的理想选择。其独特的设计和先进的特性使其成为以高效、经济高效的方式生产可靠、高质量集成电路的绝佳选择。
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