二手 NOVELLUS CONCEPT 3 #293644795 待售

NOVELLUS CONCEPT 3是一种高性能的PECVD（等离子体增强型化学气相沉积）反应器，设计用于沉积和蚀刻过程，主要在半导体行业。这种工具是一种高度精确和强大的沉积工具，用于大容量、大面积的透镜元件。CONCEPT 3利用独特的反应堆室架构，具有四个独立定位的空间。每个空间都可以独立包含单独的CVD进程和/或蚀刻进程。这种独特设计的结果是可以同时运行四个流程模块,从而实现更快的吞吐量时间和较高的流程均匀性。PECVD反应堆采用多种蚀刻工艺满足特定需求，包括感应耦合等离子体蚀刻（ICP Etch）和反应性离子蚀刻（RIE）。这是为了便于在大型多层晶片和元件上沉积和蚀刻均匀精确的薄膜。NOVELLUS CONCEPT 3配备了先进的自动化和过程控制软件，让用户可以即时优化自己的过程参数。用户可以通过几个简单的步骤来设置整个流程,并在给定运行过程中快速更改流程条件,以提高生产效率。最终结果是更好的质量、更快的生产时间以及由于对基板更精确的控制而降低了产品成本。CONCEPT 3还具有独特的"溷合冷却"系统，对四个腔室中的每一个进行灵活的温度控制。此功能使该工具具有令人难以置信的多功能性,并允许使用更高的温度以更快地蚀刻较硬的材料,或使用较低的温度以进行精细的蚀刻工作。它还有助于防止由于不同腔室之间的极端温差而导致基板翘曲。总体而言，NOVELLUS CONCEPT 3是一种先进且用途广泛的PECVD反应堆工具，旨在提供先进多层晶片和元件的高速沉积。它具有创新的腔室架构，可以独立容纳多个过程，先进的过程自动化和控制，以及提供更大温度控制的溷合冷却系统。所有这些特性使得Concept 3成为大面积组件快速精确沉积的理想选择。