二手 NOVELLUS CONCEPT 3 #9262617 待售

NOVELLUS CONCEPT 3是一种生产级化学气相沉积（CVD）反应器，具有先进的等离子体技术，以满足高端半导体制造的需求。CONCEPT 3反应堆专为与高器件复杂度、介电膜、各种热氧化物层、低k介电等需要精密初产率和低缺陷生产相关的先进材料和沉积过程而设计。NOVELLUS CONCEPT 3反应堆能够处理尺寸可达300 mm的晶片,并具有可变等离子体功率选项,最大功率可达1000W。它的设计基于一个集成的垂直偏置偏置电极，该电极具有创新的等离子体电离，促进稳定和均匀的等离子体放电。一层稀土门氧化物（REE）提供了更大的均匀性和稳定性。CONCEPT 3利用了一系列自动化控制系统，旨在确保沉积配方保持在给定的目标和公差范围内。通过智能传感器的使用，保证了真空和等离子体参数的均匀性和持续监测。这些控制提供了一个安全可靠的沉积环境，以确保一致性和可靠性。NOVELLUS CONCEPT 3反应堆是为快速沉积速率、高金属含量和先进基板相容性而设计的。它可以容纳种类繁多的材料来源，包括精选的优质氧化膜、氮化物、硅化物、碳化钨，以及钼、的、钨等金属。该反应器能够预处理底物并产生严格的过程控制。该反应堆还提供了出色的温度控制和性能优化，具有高温均匀性，快速的热斜坡速率和可重复的工艺结果。CONCEPT 3能够创建均匀的蚀刻轮廓，并具有获得专利的三频等离子体源，从而实现了先进的孔变窄，无空的半球形晶粒沉积，并增加了薄膜附着力。附加功能包括高均匀性等离子体发生器、集成平面化源、闭环过程控制和高级自动化。综上所述，NOVELLUS CONCEPT 3是一种生产级的CVD反应堆，旨在满足与高通量、首次产量、低缺陷生产相关的苛刻制造要求。它可以处理尺寸可达300毫米的晶片，并具有可变功率选项、一层稀土门氧化物和自动控制系统，以实现安全可靠的沉积。CONCEPT 3针对预处理基板和实现严密的过程控制进行了优化，并具有快速的热斜坡速率、三频等离子体源和先进的自动化功能。