二手 NOVELLUS CONCEPT One-200 #293760904 待售
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ID: 293760904
晶圆大小: 8"
PECVD System, 8"
Process: TEOS
Material: Aluminum
PSG
(2) 2000 Porters
(3) 1660
(2) HORIBA / STEC 500
EDWARDS iXH1210 Dry pump
EDWARDS iQDP80 Dry pump
EDWARDS Atlas Abatement system.
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-200是结合NOVELLUS Corporation和LAM RESEARCH Systems, Inc.的技术专长,在薄膜沉积应用中提供卓越性能的前沿反应堆设备。这种先进的反应堆设计用于半导体制造过程,特别是用于生产集成电路和其他电子元件。NOVELLUS CONCEPT One-200反应堆的核心是其创新的腔室设计,它允许精确控制沉积过程。反应堆室配备了最先进的温度和压力控制系统,以及一系列气体输送和排气系统,确保整个基板表面的膜沉积均匀。这种控制水平对于实现高级半导体应用所需的高厚度均匀性和薄膜质量是必不可少的。LAM RESEARCH CONCEPT One-200反应堆的一个关键特点是其先进的等离子体技术。反应堆装有高密度的等离子体源,能够在腔内高效、均匀地产生等离子体。该等离子体源对提高薄膜沉积工艺、提高薄膜性能、优化工艺效率至关重要。此外,反应堆还配备了先进的射频供电系统,能够精确控制等离子体能级,进一步加强沉积过程。CONCEPT One-200反应堆还具有先进的气体输送系统,可以将各种工艺气体精确地溷合和输送到燃烧室。这一单元使用户能够根据自己的具体要求调整沉积工艺,允许沉积各种薄膜材料,对薄膜特性有特殊的控制。该反应堆与多种前体气体兼容,包括硅烷、六氟化钨和其他用于半导体制造的常用材料。除了先进的处理能力外,LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-200反应堆的设计更便于使用和维护。反应堆室便于清洁和维护,机器配备了先进的诊断和监控工具,使用户能够快速识别和解决操作过程中可能出现的任何问题。这确保了使用NOVELLUS CONCEPT One-200反应堆的半导体制造设施的最大正常运行时间和生产率。总体而言,LAM RESEARCH CONCEPT One-200反应器代表了薄膜沉积技术的重大进步.其创新的设计、先进的等离子体技术和精确的控制系统,使其成为寻求为其先进电子器件实现高质量薄膜沉积的半导体制造商的理想解决方桉。凭借其卓越的性能、易用性和可靠性,CONCEPT One-200反应堆有望成为半导体行业追求下一代技术的关键资产。
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