二手 NOVELLUS CONCEPT One-200 #293763726 待售
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ID: 293763726
晶圆大小: 8"
优质的: 1992
PECVD System, 8"
Process: SiO2 / TEOS
Gas: N2, O2, C2F6
EBARA AA10 Pump
EBARA AAS200WN
Transformer
Power system
1992 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One-200是一种独一无二的革命性蚀刻/dep工具,适用于先进的技术节点。它专为尖端集成电路（IC）设备和芯片的大批量生产制造而设计。此蚀刻/dep工具实现了优越的晶片内和跨晶片均匀性,从而获得了出色的最终设备性能、产量和可靠性。设备采用等离子体反应离子蚀刻（RIE）和金属沉积（CVD）技术，利用高浓度等离子体蚀刻沉积材料。等离子体是由大功率源产生的，它允许对蚀刻过程进行更精确的控制，允许在IC的特定区域进行更深、更均匀的蚀刻。等离子体还有助于更精确地沉积材料，从而形成更薄、更均匀的金属层。该系统还具有先进的晶片处理单元，使用精密的机械臂精确地移动和旋转晶片，允许精确的位置调整，并在晶片向工艺室转移时提供等离子体种类非常低温的冷凝。这有助于提高材料的均匀性,并允许更高的层数和改进的设备性能。CONCEPT One-200采用模块化设计，由三个过程室、一个转移室和一个次大气过程室组成。这样就可以在三个工艺室中的每一个中的单个晶片上同时沉积和蚀刻,从而提供高效和经济高效的制造工艺。该工具还能够同时管理多个晶片，从而增加了机器的吞吐量。该工具还具有先进的冷却资产，用于调节腔室内部的温度，并确保整个晶片的工艺条件一致。这有助于减少颗粒污染，甚至可以延长蚀刻/剥离工具的寿命。总体而言,NOVELLUS CONCEPT One-200是一种革命性的蚀刻/dep工具,它可以将IC的大批量生产制造提升到一个新的水平。它提供了卓越的均匀性和产率，同时允许多个晶片并行处理。先进的晶圆处理模型和模块化设计有助于进一步提高其效率和成本效益。
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