二手 NOVELLUS CONCEPT One #86630 待售
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ID: 86630
CVD system, 6"
Wafer type: Major flat
Load lock chamber: Metal cassettes (3)
Vacuum system: External heated valve stack
Vacuum system: MKS type 652 throttle valve controller
Vacuum system: LL diffuser
Vacuum system: Digital LL pressure controller
Electrical system: Megapack power supply
Electrical system: NOVELLUS robot motor upgrade
Wafer spindle mechanism: Ferrofluidic seal
Wafer transfer mechanism: Non contact pin search
Wafer transfer mechanism: WOPS
Wafer transfer mechanism: Ucontainmation
Software: 4.333
End point detector: Single Verity endpoint model PM100
Control system: ELO touchscreen
Gas system: N2O upgrade
Gas system: Methane saver
RF system: Trazer match AMU201, HF ENI OEM-28B, LF
Top plate: Ceramic gas tube
Top plate: T-slot spindle upgrade from McDowell
Kalrez 9100 O-rings: 3 per Showerhead 2-012, 2-020, LL door 2-36
Software: 4.433
Robot: One arm
RF generator: ENI (OEM-28B and PL-2HF)
RF matching unit: Trazar (AMU2-1)
AC remote: NOVELLUS
Supporting equipment:
Remote power box / transf PL-2HF: Generator rack
PFC abatement system
Remote pwr / transformer OEM 28-B: Generator rack
Pumps / pumps support IQDP80 / QMB 1200: Dry
Pumps / pumps support QDP80: LL pump
Gas detection
Hook up regulators / valves
Heat jacket (For NV5 thru 8)
Gas box / Chem distribution: TEOS / TMP Sigma 6 cabinet TEOS Cabinet
Chiller / heat exchanger
Automation part
Gas box configuration:
Gas 1: Nitrogen (A1)
Gas 2: SiH4 (A2)
Gas 3: N2 (B1)
Gas 4: NH3 (B2)
Gas 5: C4F8 (B3)
Gas 6: O2 (B4)
Gas 7: N2O (B5)
Gas 8: CDA
Gas 9: TEOS
Gas 10: TMP.
NOVELLUS CONCEPT One是下一代共溅射反应器，提供高性能、高选择性和低成本的薄膜沉积。这种化学气相沉积（CVD）工具能够扩大先进基板的尺寸范围，使其成为制造厚度在2至500纳米（nm）之间的装置结构的理想选择。它旨在创建高质量的图层,并启用一系列处理选项,如定向蚀刻或全方位蚀刻。NOVELLUS CONCEPT ONE的专利工艺通过单个喷嘴在垂直和水平方向上提供均匀的沉积。这允许创建一个高度均匀，均匀的薄膜，甚至跨越复杂或复杂的图案底物。使用定向溅射而不是随机轰击，导致表面地形质量明显高于其他CVD工艺。因此,CONCEPT One非常适合需要精密薄膜元件制造的应用。反应堆提供灵活的底物装载和加工选项，使各种快速的表面清洁、蚀刻、沉积和平面化方法成为可能。通过NOVELLUS最先进的工艺控制软件和集成的专有压力技术,可以提供清晰、稳定的工艺条件。其可定制的自动化功能降低了新客户的流程开发成本,并缩短了他们的整体周期时间。CONCEPT ONE利用其节能的模块化设计来节约能源、减少排放和尽量减少危险废物产品，从而促进了晶圆加工的"绿色"方法。反应堆的直接热管理技术精确控制了工艺温度，降低了部件损坏的风险。此外，CVD系统提供了一个集成的面板清洁解决方桉，以减少薄膜积聚和排出污染颗粒，而其低压选项降低了化学氧气污染的风险，提高了整个过程的稳定性。最后,NOVELLUS CONCEPT One提供了卓越的表面质量、宽广的尺寸范围以及灵活的加载和处理选项,同时促进了晶圆处理的绿色节能方法。其集成且可定制的自动化功能支持快速的工艺开发和经济高效的生产,使其成为一系列薄膜元件制造应用的理想解决方桉。
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