二手 NOVELLUS CONCEPT One #9255441 待售

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製造商
NOVELLUS
模型
CONCEPT One
ID: 9255441
晶圆大小: 6"
CVD System, 6" 8-Channels gas box HORIBA MFC Calibrated One arm robot NG Pneumatic panel Extended heated gate and throttle valve Single end point detector TRAZAR Match network: AMU2-1 Slotted heater block Shower heads 8 stations Wafer on paddle sensor: Optical Non-contact pin search Digital controller Contact ceramic forks Main AC Remote AC Mega Pak power supply ELO Front monitor VGA Maintenance monitor Y2K Pentium computer 3.5 External drive Post process audible alarm Dual frequency ADVANCED ENERGY PDX 1400 Low frequency generator ADVANCED ENERGY RFG 3000 High frequency generator Foot peddle.
NOVELLUS CONCEPT One是一种先进的化学气相沉积(CVD)反应器,使高性能薄膜材料得以生长。它采用先进的控制逻辑软件,具有业界领先的工艺能力和高效的生产控制功能。NOVELLUS CONCEPT ONE由高级上室和下室组成。上腔室装有低压RF/DC等离子体源,利用先进的补偿和辐射控制技术,在晶圆表面提供异常均匀性。下腔配有两个直接气相沉积的生产源。这可实现卓越的薄膜沉积,非常适合IC、MEMS、LED和其他设备。CONCEPT One还设有射频(RF)发生器来管理等离子粉。这有助于有效控制生产质量,并最大限度地减少产品收缩。真空密闭室提供了更强的沉积性能和产品保护,以及过程稳定性。CONCEPT ONE是为了极致的效率和过程控制而设计的,使它可以使用铝、铜、氮化硅和氧化硅等一系列材料。这使用户能够在整个IC和MEMS市场中存放符合严格要求的薄膜层或纳米结构。此外,NOVELLUS CONCEPT One还配备了智能温度和压力分析系统,以增强沉积过程。除了可靠的质量生产和工艺外,NOVELLUS CONCEPT ONE还提供卓越的成本效益。先进的CVD技术和编程,以及高效的生产控制系统相结合,为用户提供具有成本效益的薄膜沉积。这有助于用户减少周期时间和材料成本,同时保持优质生产。CONCEPT One是一种可靠高效的CVD反应器,能够促进高性能薄膜材料的生长。它是为极致效率和过程控制而设计的,并配有先进的射频/直流等离子体源、两个生产源和一个射频发生器。它还具有智能温度和压力分析功能、成本效益和质量生产水平,可满足IC和MEMS行业最严格的要求。
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