二手 NOVELLUS CONCEPT One #9270391 待售
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ID: 9270391
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
CVD System, 8"
Process: Tungsten
Pentium 166 Computer
Front monitor
Front keyboard
Keyboard switch
Valve monitor
Signal tower
Gas valve monitor
EUROTHERM S08 Controller
No showerhead at station 0
Showerhead at station 1
Showerhead at station 2-5
Chamber:
Centering station
Pedestal 1
Pedestal 2-5
Ring hit assembly type: Ceramic tongs
Spindle type: Direct drive
Chamber view ports
No endpoint detector
TRAZAR AMU2-1 RF Marc bins network
KVOSAN RFK30-STI RF Generator
Module / System designation: CP1WV51
Vacuum system
TYLAN GENERAL Throttle valve controller
TYLAN GENERAL (Non heated) Throttle valve
Gate valve: VAT (Non heated)
TYLAN GENERAL 100 Torr manometer
TYLAN GENERAL 10 Torr manometer
TOKYO SEIDEN A-V Trance
Gas box configuration:
A1: Ar
A2: SiH4
A3 H2
A4: No
B1: Ar
B2: WF6
B3: C2F6
B4: N2
B5: N2
CI: Ar
1995 vintage.
NOVELLUS Concepts One（NC1）设备是由NOVELLUS Systems Inc.它是外延氧化反应堆Concept系列的一部分。该反应器提供了广泛的工艺能力，包括外延沉积、氧化和光致抗蚀剂剥离。NC1设计用于处理具有高均匀性和可重复性的半导体基板。NC1系统采用先进的腔室结构，由两个反应腔室并排组成，位于一条轨道上。两个反应腔通过一个共同的气体歧管和外部暴露的离子源相连。这种独特的安排允许在多个过程步骤中实现高度的控制和统一。反应堆能够产生厚度最大为2毫米的非常均匀的沉积层，并具有极好的台阶覆盖。NC1单元使用一种特殊的高性能软件机器,称为高级流程控制（APC）软件包。APC工具提供了先进的过程控制能力，允许精确控制过程参数，如腔室压力、温度、沉积速率和气流。这使得反应堆可以针对广泛的应用进行优化。NC1资产的设计目的是在各种气体化学和压力下运作。这允许在涂层工艺中使用多种材料，包括高级硅、和氮化物。它还允许使用专门的介电层和氧化层，从而实现更大的工艺灵活性。反应堆能够达到高达万分之四埃（4 x 10-10）的极佳均匀性和重复性。这与APC软件包的灵活性相结合，使NC1模型成为市场上最先进的沉积和氧化系统之一。NC1设备采用高档不锈钢和惰性气体环境构成，有助于提高操作安全性，确保系统使用寿命。该单元还受到大量警报和安全联锁的保护,这些联锁会将任何过程或安全异常通知操作员。NC1机是一种先进可靠的沉积氧化工具.它具有出色的工艺控制、可重复性和准确性,非常适合广泛的高性能半导体制造应用。
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