二手 NOVELLUS Inova NExT #9163189 待售

NOVELLUS Inova NExT是革命性的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）平台。它旨在为高性能薄膜在半导体基板上的沉积提供先进的综合工艺。该平台能够提供卓越的薄膜沉积功能,具有无与伦比的精确度、高吞吐量和出色的可重复性。Inova NExT是一种多源多目标PECVD设备，允许精确、快速和高效地沉积介电膜和导电膜。它具有几种新颖的技术，包括专利的高密度等离子体技术、多源技术和优化的基板温度控制。这些技术使系统能够为沉积具有优越膜质量的薄膜和导电膜提供最大性能和高均匀性。该单元结合了许多技术来提供先进的线性精确控制层他们薄膜。例如，其获得专利的高密度等离子体技术使其能够以极其复杂的步骤和模式沉积密度和电导率完全不同的层，从而为先进的集成电路和其他应用提供潜力。此外,该机器还提供出色的基板温度控制,使电介质层能够在低于200°C的温度下精确沉积。这种能力的一个主要好处是，它可以沉积高可扩展性和长期在高温下保持稳定的薄膜。NOVELLUS Inova NExT还为高级金属沉积工艺提供了明确定义的金属、氧化物和氮化物的卓越覆盖范围、均匀性和保形性。它包括先进的反应性气体分布、精确的温度控制和多源能力，以生产具有良好边缘附着力的均匀层，甚至在紧弯处也是如此。总体而言，Inova NExT是一种先进的PECVD工具，提供精确、快速和高效的介电和导电膜沉积，具有优越的薄膜质量和无与伦比的温度控制。它具有极好的可重复性、均匀性和覆盖率，可用于各种先进的金属沉积工艺，使先进的集成电路和其他应用成为可能。