二手 NOVELLUS Inova #9223198 待售

NOVELLUS Inova是一种化学气相沉积（CVD）工具，用于在半导体晶片上沉积薄膜，用于先进的微电子器件制造。它是实现薄膜精确、均匀和可重复沉积的强大工具,对于提供具有最小缺陷的高性能半导体组件至关重要。Inova由一个机器人手臂、一个反应堆室、一个加热的扩散屏蔽层以及相关的过程气体输送线如氢气和含硅气体组成的淋浴头反平衡。喷头是一个双面、电子束加热、绝缘两位台，温度传感器嵌入其绝缘底座。机器人臂是一种五轴装置，在x、y和z方向上移动，以及旋转和枢轴。它连接到淋浴头，用于直接从自动基板存储系统和过程传输系统加载晶片。反应堆室为电抛光不锈钢壳体，带有O型密封波纹管式气闸门。安装在腔室内部的扩散罩包含一个抗热环，用于对基板表面进行精确而均匀的加热。屏蔽层还涂有碳化钛，以保护其免受环境影响，并进一步增强基板表面的均匀温度循环。NOVELLUS Inova是一个对沉积过程进行精确控制的自动化系统。内置运动控制器有助于确保基板的高度精确加热和多个晶片的均匀沉积。工艺气体管线负责供应在基板上制造薄膜所需的挥发物。硅烷（SiH4）和二氯硅烷（SiH2Cl2）是该平台反应生成二氧化硅（SiO2）薄膜时使用的主要气体。这些反应物气体被注入反应堆室内，在底物表面进行原位化学反应。在伊诺瓦使用一系列压力和质量流量控制器控制气体输送。一旦基板预热至最佳温度，反应物的恒定流动被激活，并使用扩散屏蔽和运动控制器施加有限的温度循环。NOVELLUS Inova是一款功能强大、精密的沉积工具,其自动化操作可实现跨多个晶圆的重复和均匀沉积。它是现代半导体制造中必不可少的工具。