二手 NOVELLUS Inova #9383177 待售

製造商
NOVELLUS
模型
Inova
ID: 9383177
晶圆大小: 12"
PVD System, 12".
NOVELLUS Inova是半导体行业的高生产率过程反应堆,将突破性的低温处理与快速循环时间和高均匀性相结合。其独特的专利功能提供了一个通用的平台,能够可靠地处理从高级节点到sub-5 nm的所有技术。Inova反应堆能力由原位过程诊断、自适应控制和先进材料瞄准提供动力。其集成射频阻抗匹配(RFI)系统在sCMOS晶圆箱内提供了更大的过程控制,同时还为更改过程要求提供了最大的灵活性。反应堆还被设计用来支撑广泛的底物,包括先进的晶片如FinFET和3D结构。NOVELLUS Inova反应堆在高达400°C的温度下运行,压力范围为200-600 mTorr,为蚀刻、沉积和退火功能提供了令人印象深刻的工艺灵活性。该反应堆采用了一种专有的气流动力学(VFD)技术,能够改进沉积的一致性和利用复杂的新沉积化学。Inova反应堆还拥有创新的NOVELLUS Inova脉动技术,可减少循环时间,同时促进更好的均匀性和减少排便。这项技术在一秒钟内产生一个短而精确的脉冲阵列,从而可以进行可靠的薄膜应用过程。采用优化的气体动力学分布,保证了材料沉积的均匀性。伊诺娃的卓越性能是通过其精密的温度和压力管理系统实现的。其高端处理软件被设计为提供有关晶圆工艺指数(PI)的实时和预测反馈,这是半导体工艺的关键参数。用户可以使用PI来确定精确的蚀刻速率、沉积速率或晶圆温度。为了进一步提高工艺效果,NOVELLUS Inova提供了许多优化功能,如均匀性和晶圆定位。加上一系列附加的软件工具,确保始终可以获得最高质量的结果。总体而言,Inova是一种高度先进的过程反应堆,其设计旨在最大限度地提高生产率和效率,同时提供最佳的产量、均匀性和排泄性。它具有自动化的工艺功能和创新的特性,是任何半导体工艺的理想选择。
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