二手 NOVELLUS Inova #9384622 待售

NOVELLUS Inova
製造商
NOVELLUS
模型
Inova
ID: 9384622
PVD System Process: Ta barrier / Cu seed deposition.
NOVELLUS Inova是一种沉积反应器,旨在方便用于半导体应用的高质量薄膜沉积。伊诺娃结合了高长宽比、高精度和优越的通量控制,以最高效的方式生产出质量最高的薄膜。反应堆采用双室配置设计,允许用户沉积薄至5 nm的薄膜。NOVELLUS Inova有一种专有的静电卡盘,防止粒子和碎片在沉积过程中积聚。这降低了污染的风险,提高了晶圆上的均匀性。伊诺娃还采用了独特的第二室设计。这样可以在不同的温度和压力水平下进行精确的通量控制,从而在整个晶片上创造出优越的均匀性,并提高沉积膜的性能。反应堆还采用基于等离子体的沉积技术进行设计,从而能够精确控制沉积速率并提高薄膜性能的可靠性。NOVELLUS Inova可用于多种不同的沉积过程,包括热化学气相沉积(TCVD)、原子层沉积(ALD)和物理气相沉积(PVD)。此外,Inova还具有许多其他功能,使其成为功能强大且用途广泛的沉积工具。其先进的控制软件允许对过程变量进行精确和可重复的控制。NOVELLUS Inova还具有可调波纹管系统,在整个晶圆上产生均匀的沉积速率和均匀性。反应堆还有一个精密的光学监测系统,不断检查沉积膜的完整性。总体而言,伊诺娃是一个先进的沉积反应堆,提供优越的性能和产量。其双腔室设计提供可靠一致的沉积,可调波纹管系统确保均匀性和准确性。NOVELLUS Inova是全球半导体行业信赖的强大工具,提供高质量的薄膜沉积。
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