二手 NOVELLUS / LAM Sabre Next 200 #293590631 待售

NOVELLUS/LAM Sabre Next 200是针对集成电路（IC）制造优化的等离子增强低压化学气相沉积（PE-LPCVD）反应器。它旨在实现高达200晶圆/小时的过程吞吐量,负载锁定容量为200晶圆。它具有多区低压蚀刻室，用于控制多晶硅和其他具有高介电常数层的材料的蚀刻。LAM Sabre Next 200采用4英寸晶圆尺寸,基于Ultima平台,具有增强的直流电源和改进的腔室匹配技术。气体输送和控制设备的设计使高质量材料能够有效沉积。该工艺室配备了转盘和超声波技术，以及精密激光系统，以实现均匀、高质量的晶圆蚀刻。NOVELLUS Sabre Next 200还提供高空控制精度，12位编码器单元在晶圆级实现0.2微米的分辨率。它有一个可选的冷却板功能，使温度临界材料的发展。此外，反应堆可以配置温度范围高达600°C的热塑性或陶瓷加热级。Sabre Next 200具有两种不同的蚀刻工艺，即PE-LPCVD和辉光放电氧化。等离子体增强版利用氧气、氮气和/或硅烷控制蚀刻速率。辉光放电氧化工艺可提高掺杂多晶硅沉积速率，优化厚度控制。NOVELLUS/LAM Sabre Next 200还配备了专利的、原位金属升降机，使过程控制更好。Sabre Insight 200的高级控制工具允许操作员实时监控流程参数。这一先进的HMI资产与广泛的配方库集成在一起，可以适应未来的技术。此外，反应堆采用开放式架构设计，使其能够轻松与现有工厂生产管理和设计自动化系统集成。LAM Sabre Next 200是一种创新、先进的反应堆，非常适合大批量的IC生产。它旨在通过高质量的介电蚀刻技术实现高水平的工艺吞吐量,用于与工艺相关的材料。NOVELLUS Sabre Next 200提供了先进灵活的控制模式，允许与现有设施控制系统轻松集成，提供了提高生产效率的绝佳机会。